Supporto per wafer con substrato di grafite per PECVD

Breve descrizione:

Il supporto per substrato in grafite di VET Energy è progettato per mantenere l'allineamento e la stabilità del wafer durante tutto il processo PECVD, prevenendo la contaminazione e riducendo al minimo il rischio di danni. Il supporto per wafer in grafite fornisce una piattaforma sicura e uniforme, garantendo che i wafer siano esposti uniformemente al plasma per una deposizione coerente e di alta qualità. Grazie all'elevata conduttività termica e alla resistenza eccezionale, questo supporto contribuisce a migliorare l'efficienza complessiva del processo e le prestazioni del prodotto.

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Dettagli del prodotto

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Il supporto per wafer con substrato di grafite VET Energy è un supporto di precisione progettato per il processo PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition). Questo supporto per substrato in grafite di alta qualità è realizzato in materiale di grafite ad alta purezza e alta densità, con eccellente resistenza alle alte temperature, resistenza alla corrosione, stabilità dimensionale e altre caratteristiche. Può fornire una piattaforma di supporto stabile per il processo PECVD e garantire l'uniformità e la planarità della deposizione del film.

La tabella di supporto del wafer di grafite di processo VET Energy PECVD ha le seguenti caratteristiche:

▪Elevata purezza:contenuto di impurità estremamente basso, evitare la contaminazione della pellicola, garantire la qualità della pellicola.

▪Alta densità:alta densità, elevata resistenza meccanica, può resistere ad ambienti PECVD ad alta temperatura e alta pressione.

▪Buona stabilità dimensionale:piccolo cambiamento dimensionale ad alta temperatura, garantendo la stabilità del processo.

▪Eccellente conduttività termica:trasferire efficacemente il calore per prevenire il surriscaldamento del wafer.

▪Forte resistenza alla corrosione:può resistere all'erosione di vari gas corrosivi e plasma.

▪Servizio personalizzato:tavoli di supporto in grafite di diverse dimensioni e forme possono essere personalizzati in base alle esigenze del cliente.

Vantaggi del prodotto

▪Migliora la qualità della pellicola:Garantire una deposizione uniforme della pellicola e migliorare la qualità della pellicola.

▪Prolungare la vita dell'attrezzatura:Eccellente resistenza alla corrosione, prolunga la durata delle apparecchiature PECVD.

▪Ridurre i costi di produzione:I vassoi in grafite di alta qualità possono ridurre il tasso di scarto e ridurre i costi di produzione.

Materiale in grafite di SGL:

Parametro tipico: R6510
Indice	Norma di prova	Valore	Unità
Granulometria media	ISO 13320	10	µm
Densità apparente	DIN CEI 60413/204	1.83	g/cm³
Porosità aperta	DIN66133	10	%
Dimensione media dei pori	DIN66133	1.8	µm
Permeabilità	DIN 51935	0,06	cm²/s
Durezza Rockwell HR5/100	DIN IEC60413/303	90	HR
Resistività elettrica specifica	DIN CEI 60413/402	13	μΩm
Resistenza alla flessione	DIN CEI 60413/501	60	MPa
Resistenza alla compressione	DIN 51910	130	MPa
Modulo di Young	DIN 51915	11,5×10³	MPa
Dilatazione termica (20-200 ℃)	DIN 51909	4.2X10^-6	K^-1
Conduttività termica (20℃)	DIN 51908	105	Wm^-1K^-1

È specificamente progettato per la produzione di celle solari ad alta efficienza, supportando l'elaborazione di wafer G12 di grandi dimensioni. Il design ottimizzato del supporto aumenta significativamente la produttività, consentendo tassi di rendimento più elevati e costi di produzione inferiori.

Articolo	Tipo	Porta wafer numerico
Barca in PEVCD Grephite - La serie 156	156-13 barca in grefite	144
	156-19 barca in grefite	216
	156-21 barca in grefite	240
	156-23 barchetta in grafite	308
Barca in PEVCD Grephite - La serie 125	Barca in grefite 125-15	196
	125-19 barca in grefite	252
	Barca in grafite 125-21	280