Riscaldatore in grafite personalizzato per wafer di silicio semiconduttore, rivestimento SiC

Breve descrizione:

Specifica tecnica

VET-M3

Densità apparente (g/cm3)

≥1,85

Contenuto di ceneri (PPM)

≤500

Durezza Shore

≥45

Resistenza specifica (μ.Ω.m)

≤12

Resistenza alla flessione (Mpa)

≥40

Resistenza alla compressione (Mpa)

≥70

Massimo. Granulometria (μm)

≤43

Coefficiente di dilatazione termica Mm/°C

≤4,4*10-6


Dettagli del prodotto

Tag dei prodotti

Specifica tecnica

VET-M3

Densità apparente (g/cm3)

≥1,85

Contenuto di ceneri (PPM)

≤500

Durezza Shore

≥45

Resistenza specifica (μ.Ω.m)

≤12

Resistenza alla flessione (Mpa)

≥40

Resistenza alla compressione (Mpa)

≥70

Massimo. Granulometria (μm)

≤43

Coefficiente di dilatazione termica Mm/°C

≤4,4*10-6

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Riscaldatore in grafite personalizzato per wafer di silicio a semiconduttore

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Riscaldatore in grafite personalizzato per wafer di silicio a semiconduttore


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