Kísil-undirstaða GaN Epitaxy

Vörulýsing

Fyrirtækið okkar veitir SiC húðunarferlisþjónustu með CVD aðferð á yfirborði grafíts, keramik og annarra efna, þannig að sérstakar lofttegundir sem innihalda kolefni og kísil hvarfast við háan hita til að fá mikla hreinleika SiC sameindir, sameindir sem eru settar á yfirborð húðuðu efnanna, myndar SIC hlífðarlag.

Helstu eiginleikar:

1. Oxunarþol við háan hita:

oxunarþolið er enn mjög gott þegar hitastigið er allt að 1600 C.

2. Hár hreinleiki: gert með efnagufuútfellingu við háhita klórunarskilyrði.

3. Rofþol: mikil hörku, samningur yfirborð, fínar agnir.

4. Tæringarþol: sýra, basa, salt og lífræn hvarfefni.

Helstu upplýsingar um CVD-SIC húðun