Porous tantal carbide Fyrir SiC kristalvöxt sem hitasviðsefni

Gljúpt tantalkarbíð fyrir SiC kristalvöxt sem hitasviðsefni Valmynd

Stutt lýsing:

Porous tantal carbide er aðallega notað til að sía gasfasa hluti, stilla staðbundinn hitastig, stýra efnisflæðisstefnu, stjórna leka osfrv. Það er hægt að nota með öðru solid tantal carbide (compact) eða tantal carbide húðun frá Hengpu Technology til að mynda staðbundna íhluti með mismunandi flæðisleiðni.

Sendu tölvupóst til okkar Sækja sem PDF

Upplýsingar um vöru

Vörumerki

TaC húðun er eins konar tantalkarbíð (TaC) húðun sem er unnin með líkamlegri gufuútfellingartækni, það hefur eftirfarandi eiginleika:

1. Hár hörku: hörku TaC húðunar er mikil, getur venjulega náð 2500-3000HV, er frábært hörð lag.

2. Slitþol: TaC húðun er mjög slitþolin, sem getur í raun dregið úr sliti og skemmdum á vélrænum hlutum við notkun.

3. Góð háhitaþol: TaC húðun getur einnig viðhaldið framúrskarandi árangri við háhita umhverfi.

4. Góður efnafræðilegur stöðugleiki: TaC húðun hefur góðan efnafræðilegan stöðugleika og getur staðist mörg efnahvörf, svo sem sýrur og basa.

碳化钽涂层物理特性物理特性 Eðliseiginleikar TaC húðun
密度/ Þéttleiki	14,3 (g/cm³)
比辐射率 / Sérstök losun	0.3
热膨胀系数 / Hitastækkunarstuðull	6.3 10^-6/K
努氏硬度/ hörku (HK)	2000 kr
电阻 / Viðnám	1×10^-5 Óm* cm
热稳定性 / Hitastöðugleiki	<2500 ℃
石墨尺寸变化 / Grafítstærð breytist	-10~-20um
涂层厚度 / Húðþykkt	≥20um dæmigert gildi (35um±10um)

Ningbo VET Energy Technology Co., Ltd er hátæknifyrirtæki sem einbeitir sér að framleiðslu og sölu háþróaðra efna, efna og tækni þar á meðal grafít, kísilkarbíð, keramik, yfirborðsmeðferð og svo framvegis. Vörurnar eru mikið notaðar í ljósvökva, hálfleiðara, nýrri orku, málmvinnslu osfrv.

Tækniteymi okkar kemur frá efstu innlendum rannsóknarstofnunum, getur veitt faglegri efnislausnir fyrir þig.

Verið hjartanlega velkomin að heimsækja verksmiðjuna okkar, við skulum hafa frekari umræður!