Chemical Vapor Deposition (CVD) er mikilvæg þunnfilmuútfelling tækni, oft notuð til að undirbúa ýmsar hagnýtar kvikmyndir og þunnt lag efni, og er mikið notað í hálfleiðaraframleiðslu og öðrum sviðum.
1. Vinnureglur CVD
Í CVD ferlinu er gasforveri (eitt eða fleiri loftkennd forefnissambönd) komið í snertingu við yfirborð undirlagsins og hitað að ákveðnu hitastigi til að valda efnahvörfum og setja á yfirborð undirlagsins til að mynda æskilega filmu eða húðun. lag. Afurð þessara efnahvarfa er fast efni, venjulega efnasamband úr viðkomandi efni. Ef við viljum líma sílikon við yfirborð, getum við notað tríklórsílan (SiHCl3) sem forefnisgas: SiHCl3 → Si + Cl2 + HCl Kísill mun bindast hvaða yfirborði sem er (bæði innra og ytra), en klór- og saltsýrulofttegundir útskrifast úr hólfinu.
2. CVD flokkun
Thermal CVD: Með því að hita forvera gasið til að brotna niður og setja það á yfirborð undirlagsins. Plasma Enhanced CVD (PECVD): Plasma er bætt við varma CVD til að auka hvarfhraða og stjórna útfellingarferlinu. Metal Organic CVD (MOCVD): Með því að nota lífræn málmsambönd sem forefni lofttegunda er hægt að útbúa þunnar filmur af málmum og hálfleiðurum og eru þær oft notaðar við framleiðslu á tækjum eins og LED.
3. Umsókn
(1) Hálfleiðaraframleiðsla
Kísilfilma: notað til að undirbúa einangrunarlög, hvarfefni, einangrunarlög, osfrv. Nítríðfilma: notað til að undirbúa kísilnítríð, álnítríð o.s.frv., notað í LED, rafmagnstæki osfrv. Málmfilma: notað til að undirbúa leiðandi lög, málmhúðuð lög o.s.frv.
(2) Skjátækni
ITO filma: Gegnsætt leiðandi oxíðfilm, almennt notuð í flatskjá og snertiskjái. Koparfilma: notað til að undirbúa umbúðalög, leiðandi línur osfrv., Til að bæta afköst skjátækja.
(3) Aðrir reitir
Optísk húðun: þ.mt endurskinshúð, ljóssíur o.s.frv. Ryðvarnarhúð: notað í bílahlutum, geimferðatækjum osfrv.
4. Einkenni CVD ferli
Notaðu umhverfi við háan hita til að stuðla að viðbragðshraða. Venjulega framkvæmt í lofttæmu umhverfi. Fjarlægja þarf mengunarefni á yfirborði hlutans áður en málað er. Ferlið getur haft takmarkanir á hvarfefnum sem hægt er að húða, þ.e. hitatakmarkanir eða hvarfvirkni. CVD húðunin mun ná yfir öll svæði hlutans, þar á meðal þræði, blindhol og innra yfirborð. Getur takmarkað getu til að fela ákveðin marksvæði. Þykkt filmunnar er takmörkuð af ferli og efnisskilyrðum. Frábær viðloðun.
5. Kostir CVD tækni
Einsleitni: Getur náð samræmdri útfellingu á undirlagi á stóru svæði.
Stjórnun: Hægt er að stilla útfellingarhraða og filmueiginleika með því að stjórna flæðishraða og hitastigi forefnisgassins.
Fjölhæfni: Hentar fyrir útfellingu á ýmsum efnum, svo sem málmum, hálfleiðurum, oxíðum osfrv.
Pósttími: maí-06-2024