Kísilkarbíð (SiC) er eins konar keramik efni með víðtæka notkunarmöguleika, sem hefur framúrskarandi hitaleiðni, efnafræðilegan stöðugleika og háhitaþol.Til að bæta enn frekar afköst og notkunarsvið kísilkarbíðs hefur efnagufuútfelling (CVD) tækni orðið mikilvæg aðferð til að undirbúa kísilkarbíðhúð.
Kísilkarbíð CVD húðunin getur myndað einsleitt og þétt hlífðarlag á ýmsum undirlagi og hefur margs konar betri eiginleika.Í fyrsta lagi hefur kísilkarbíðhúðin mjög mikla hörku og slitþol, sem getur í raun staðist slit og klóra og verndað undirlagið gegn sliti og tæringu.Í öðru lagi hefur kísilkarbíðhúðin framúrskarandi háhitaþol og getur samt viðhaldið miklum vélrænni styrk og efnafræðilegum stöðugleika við háhitaumhverfi.Þetta gerir kísilkarbíð CVD húðun mikið notað í geimferðum, orku, efnafræði og öðrum sviðum, svo sem fyrir brunahólfið innri vegghúð, háhita gasskynjara og háhita rafeindatæki.
Að auki hefur kísilkarbíðhúðin einnig framúrskarandi hitaleiðni og rafmagns einangrunareiginleika.Varmaleiðni vísar til getu efnis til að leiða hita og mikil varmaleiðni kísilkarbíðs CVD húðunar gerir þau tilvalin fyrir hitastjórnunarnotkun, svo sem fyrir ofna og hitapípur.Rafeinangrun vísar til einangrunarframmistöðu efnisins við strauminn og góð rafeinangrun kísilkarbíðhúðarinnar gerir það mikið notað í rafeindatækjum, svo sem háspennu einangrunarlagi og rafrænum umbúðum.
Þegar kísilkarbíð CVD húðun er útbúin eru algengar forefnislofttegundir kísilgjafar og kolefnisgjafar eins og metan og sílan.Þessar lofttegundir mynda þunnt lag af kísilkarbíði á yfirborði undirlagsins í gegnum CVD hvarfið.Með því að stilla hvarfskilyrðin, eins og hitastig, loftþrýsting og gasflæði, er hægt að stjórna þykkt, formgerð og eiginleikum lagsins.
Í stuttu máli hefur kísilkarbíð CVD húðunin fjölda yfirburða eiginleika, þar á meðal mikla hörku, slitþol, háhitaþol, hitaleiðni og rafeinangrun.Þessir eiginleikar gera það að verkum að kísilkarbíðhúð hefur fjölbreytt notkunarmöguleika á mörgum sviðum, þar á meðal flug-, orku-, efna- og rafeindatækni.Með stöðugri þróun og endurbótum á CVD tækni verður frammistaða kísilkarbíðhúðarinnar bætt enn frekar, sem veitir fleiri möguleika á fleiri forritum á fleiri sviðum.
Birtingartími: 18. desember 2023