Epitaxial Epi Graphite Barrel Susceptor

Epitaxial Epi Graphite Barrel Susceptor

Epitaxial Epi Graphite Barrel Susceptorհատուկ նախագծված հենարան և տաքացնող սարք է, որն օգտագործվում է կիսահաղորդչային ենթաշերտերը պահելու և տաքացնելու համար արտադրական գործընթացների ժամանակ, ինչպիսիք են նստեցման կամ էպիտաքսիայի գործընթացները:

Դրա կառուցվածքը ներառում է սովորաբար գլանաձև կամ թեթևակի տակառաձև, մակերեսային ունի բազմաթիվ գրպաններ կամ հարթակներ վաֆլիները տեղադրելու համար, կարող են լինել ամուր կամ խոռոչ՝ կախված ջեռուցման եղանակից:

Էպիտաքսիալ տակառի ընկալիչի հիմնական գործառույթները.

- Ենթաշերտի աջակցություն. ապահով կերպով պահում է մի քանի կիսահաղորդչային վաֆլիներ;
- Ջերմային աղբյուր. ապահովում է բարձր ջերմաստիճաններ, որոնք անհրաժեշտ են ջեռուցման միջոցով աճի համար.
-Ջերմաստիճանի միատեսակություն. ապահովում է ենթաշերտերի միատեսակ տաքացում;
- Պտտում. սովորաբար պտտվում է աճի ընթացքում՝ բարելավելու ջերմաստիճանը և գազի բաշխման միատեսակությունը:

Epi գրաֆիտի տակառի ընկալիչի աշխատանքի սկզբունքը.
- Էպիտաքսիալ ռեակտորում տակառի ընկալիչը տաքացվում է մինչև պահանջվող ջերմաստիճանը (սովորաբար 1000℃-1200℃ սիլիցիումի էպիտաքսիայի համար);
- Տակառի ընկալիչը պտտվում է ջերմաստիճանի միասնական բաշխումն ու գազի հոսքը ապահովելու համար.
-Ռեակցիայի գազերը բարձր ջերմաստիճաններում քայքայվում են՝ հիմքի մակերեսի վրա առաջացնելով էպիտաքսիալ շերտեր:

Ծրագրեր:
- Հիմնականում օգտագործվում է սիլիցիումի էպիտաքսիալ աճի համար
-Կիրառելի է նաև այլ կիսահաղորդչային նյութերի էպիտաքսիայի համար, ինչպիսիք են GaAs, InP և այլն:

VET Energy-ն օգտագործում է բարձր մաքրության գրաֆիտ CVD-SiC ծածկույթով՝ քիմիական կայունությունը բարձրացնելու համար.

VET Energy Epitaxial Epi Graphite Barrel Susceptor-ի առավելությունները.

- Բարձր ջերմաստիճանի կայունություն;
- Լավ ջերմային միատեսակություն;
-Կարող է մշակել մի քանի սուբստրատներ միաժամանակ՝ բարելավելով արտադրության արդյունավետությունը.
-Քիմիապես իներտ՝ պահպանելով աճի բարձր մաքրության միջավայր: