Mesterséges, nagy sűrűségű önkenő grafitrudak, szilikon bevonatú grafitrudak

Rövid leírás:


Termék részletek

Termékcímkék

Gyakran ügyfélorientált, és végső célunk, hogy ne csak valószínűleg a legelismertebb, legmegbízhatóbb és legbecsületesebb szolgáltatóvá legyünk, hanem ügyfeleink partnerévé is váljunk a szuperlegalacsonyabb árú kínai 1200c plazmanövelt vegyi gőzleválasztáshoz.PecvdVákuum Funace, Ha többet szeretne megtudni arról, hogy mit tehetünk Önért, forduljon hozzánk bármikor. Bízunk benne, hogy jó és hosszú távú üzleti kapcsolatokat alakíthatunk ki Önnel.
Gyakran ügyfélorientált, és végső célunk, hogy ne csak valószínűleg a legelismertebb, legmegbízhatóbb és legbecsületesebb szolgáltatóvá legyünk, hanem ügyfeleink partnerévé is legyünk.Kínai plazmanövelt kémiai gőzlerakódás, Pecvd, Fejlett berendezéseink, kiváló minőségirányításunk, kutatási és fejlesztési képességünk csökkenti az árunkat. Lehet, hogy az általunk kínált ár nem a legalacsonyabb, de garantáljuk, hogy abszolút versenyképes! Üdvözöljük, hogy azonnal lépjen kapcsolatba velünk a jövőbeli üzleti kapcsolatok és a kölcsönös siker érdekében!

Termékleírás

Szén / szén kompozitok(a továbbiakban: „C/C vagy CFC”) egyfajta kompozit anyag, amely szén alapú, és szénszállal és annak termékeivel megerősített (szénszál előforma). A szén tehetetlensége és a szénszál nagy szilárdsága egyaránt megvan. Jó mechanikai tulajdonságokkal, hőállósággal, korrózióállósággal, súrlódási csillapítással, valamint hő- és elektromos vezetőképességi jellemzőkkel rendelkezik

CVD-SiCA bevonat egységes szerkezetű, kompakt anyaggal, magas hőmérséklettel szembeni ellenállással, oxidációval szembeni ellenállással, nagy tisztasággal, sav- és lúgállósággal és szerves reagenssel rendelkezik, stabil fizikai és kémiai tulajdonságokkal.

A nagy tisztaságú grafitanyagokhoz képest a grafit 400 C-on kezd oxidálódni, ami az oxidáció következtében porveszteséget okoz, ami környezetszennyezést eredményez a perifériás eszközökben és a vákuumkamrákban, és megnöveli a nagy tisztaságú környezet szennyeződéseit.

A SiC bevonat azonban 1600 fokos fizikai és kémiai stabilitást képes fenntartani, széles körben használják a modern iparban, különösen a félvezetőiparban.

Cégünk grafit, kerámia és egyéb anyagok felületén CVD módszerrel SiC bevonatolási eljárási szolgáltatásokat nyújt, így speciális szén- és szilíciumtartalmú gázok magas hőmérsékleten reakcióba lépve nagy tisztaságú SiC molekulákat, a bevont anyagok felületén lerakódott molekulákat, SIC védőréteget képez. A kialakult SIC szilárdan kötődik a grafit alaphoz, különleges tulajdonságokat adva a grafit alapnak, így a grafit felülete kompakt, porozitásmentes, magas hőmérséklet-álló, korrózióálló és oxidációálló.

 SiC bevonat feldolgozás grafit felületű MOCVD szuszceptorokon

Főbb jellemzők:

1. Magas hőmérsékletű oxidációállóság:

az oxidációállóság még 1600 C-os hőmérsékleten is nagyon jó.

2. Nagy tisztaságú: kémiai gőzleválasztással készült magas hőmérsékletű klórozási körülmények között.

3. Erózióállóság: nagy keménység, tömör felület, finom részecskék.

4. Korrózióállóság: sav, lúg, só és szerves reagensek.

 

A CVD-SIC bevonatok főbb specifikációi:

SiC-CVD

Sűrűség

(g/cc)

3.21

Hajlító szilárdság

(Mpa)

470

Hőtágulás

(10-6/K)

4

Hővezetőképesség

(W/mK)

300

Részletes képek

SiC bevonat feldolgozás grafit felületű MOCVD szuszceptorokonSiC bevonat feldolgozás grafit felületű MOCVD szuszceptorokonSiC bevonat feldolgozás grafit felületű MOCVD szuszceptorokonSiC bevonat feldolgozás grafit felületű MOCVD szuszceptorokonSiC bevonat feldolgozás grafit felületű MOCVD szuszceptorokon

Cégadatok

111

Gyári berendezések

222

Raktár

333

Tanúsítványok

Tanúsítványok 22

 


  • Előző:
  • Következő:

  • WhatsApp online csevegés!