Bato grafit yo itilize nan PECVD nan liy pwodiksyon selil solè
Pwodiksyon selil solè yo mande sis gwo pwosesis: tèkstur, difizyon, grave, kouch, ekran enprime ak sintering. Nan fabrikasyon selil solè yo, pwosesis kouch tib PECVD la sèvi ak yon bato grafit kòm kò k ap travay. Pwosesis kouch la sèvi ak plasma amelyore depo chimik vapè pou depoze yon fim nitrure Silisyòm sou devan wafer Silisyòm pou diminye refleksyon limyè solèy la ak sifas wafer Silisyòm lan.
Karakteristik bato grafit PECVD nou an:
1). Adopte pou elimine "koulè lantiy" teknoloji a, pou asire w san yo pa "lanti coloe" pandan pwosesis la alontèm.
2). Te fè nan materyèl grafit enpòte ak pite segondè, kontni enpurte ki ba ak gwo fòs.
3). Sèvi ak 99.9% seramik la pou asanble seramik la ak gwo pèfòmans rezistan korozyon ak prèv brust.
4). Sèvi ak ekipman nan pwosesis presizyon asire presizyon nan chak pati.
Spesifikasyon
| Atik | Kalite | Nimewo transpòtè wafer |
| PEVCD bato grafit --- Seri 156 la | 156-13 bato grafit | 144 |
| 156-19 bato grafit | 216 | |
| 156-21 bato grafit | 240 | |
| 156-23 bato grafit | 308 | |
| PEVCD bato grafit --- Seri 125 la | 125-15 bato grafit | 196 |
| 125-19 bato grafit | 252 | |
| 125-21 bato grafit | 280 |
Ningbo VET Enèji Teknoloji co, Ltd se yon antrepriz gwo teknoloji ki konsantre sou pwodiksyon ak lavant de materyèl avanse-wo fen, materyèl yo ak teknoloji ki gen ladan grafit, carbure Silisyòm, seramik, tretman sifas tankou SiC kouch, TaC kouch, kabòn vit. kouch, kouch kabòn pirolitik, elatriye, pwodwi sa yo yo lajman ki itilize nan fotovoltaik, semi-conducteurs, nouvo enèji, metaliji, elatriye.
Ekip teknik nou an soti nan tèt enstitisyon rechèch domestik, epi yo te devlope plizyè teknoloji patante asire pèfòmans ak bon jan kalite pwodwi, kapab tou bay kliyan solisyon materyèl pwofesyonèl.
