Portadores de obleas MOCVD de grafito con revestimento de SiC, susceptores de grafito paraEpitaxia SiC,
O carbono proporciona susceptores, Susceptores de epitaxia de grafito, Substratos de soporte de grafito, Susceptor MOCVD, Epitaxia SiC, Susceptores de obleas,

As vantaxes especiais dos nosos susceptores de grafito revestidos de SiC inclúen unha pureza extremadamente alta, un revestimento homoxéneo e unha excelente vida útil. Tamén teñen propiedades de alta resistencia química e estabilidade térmica.

O revestimento de SiC do substrato de grafito para aplicacións de semicondutores produce unha peza cunha pureza e resistencia superiores á atmosfera oxidante.
CVD SiC ou CVI SiC aplícase ao grafito de pezas de deseño simples ou complexas. O revestimento pódese aplicar en diferentes grosores e en pezas moi grandes.

Características:
· Excelente resistencia ao choque térmico
· Excelente resistencia a choques físicos
· Excelente resistencia química
· Pureza súper alta
· Dispoñibilidade en Forma complexa
· Utilizable en atmosfera comburente

Aplicación:

Propiedades típicas do material de grafito base:

O carbono proporciona susceptorese compoñentes de grafito para todos os reactores de epitaxia actuais. A nosa carteira inclúe susceptores de barril para unidades aplicadas e LPE, susceptores de filloas para unidades LPE, CSD e Gemini e susceptores de oblea única para unidades aplicadas e ASM. Ao combinar fortes asociacións cos principais OEM, experiencia en materiais e coñecementos de fabricación, SGL ofrece o deseño óptimo para a súa aplicación.