Calentador de grafito personalizado para obleas de silicio semiconductores, revestimento de SiC

Quentador de grafito personalizado para obleas de silicio semiconductores, revestimento de SiC Imaxe destacada

Breve descrición:

Especificación técnica	VET-M3
Densidade aparente (g/cm3)	≥1,85
Contido de cinzas (PPM)	≤500
Dureza Shore	≥45
Resistencia específica (μ.Ω.m)	≤12
Resistencia á flexión (Mpa)	≥40
Resistencia a la compresión (Mpa)	≥70
Máx. Tamaño de gran (μm)	≤43
Coeficiente de expansión térmica Mm/°C	≤4,4*10-6

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PersonalizadoCalentador de grafito para oblea de silicio semiconductor

Especificación técnica	VET-M3
Densidade aparente (g/cm3)	≥1,85
Contido de cinzas (PPM)	≤500
Dureza Shore	≥45
Resistencia específica (μ.Ω.m)	≤12
Resistencia á flexión (Mpa)	≥40
Resistencia a la compresión (Mpa)	≥70
Máx. Tamaño de gran (μm)	≤43
Coeficiente de expansión térmica Mm/°C	≤4,4*10-6

Calentador de grafito personalizado para obleas de silicio semiconductores

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