Trèana duilleag epitaxial silicon carbide airson fùirneis epitaxial semiconductor

Tha treidhe duilleag silicon carbide na phrìomh phàirt a thathas a’ cleachdadh ann an grunn phròiseasan saothrachaidh semiconductor. Bidh sinn a’ cleachdadh ar teicneòlas peutant gus an treidhe duilleag carbide silicon a dhèanamh le fìor fhìor-ghlan, deagh èideadh còmhdach agus beatha seirbheis sàr-mhath, a bharrachd air neart ceimigeach àrd agus feartan seasmhachd teirmeach.

Is e VET Energy an fhìor neach-saothrachaidh de thoraidhean grafait gnàthaichte agus carbide sileaconach le còmhdach eadar-dhealaichte leithid SiC, Tac, gualain pyrolytic, carbon glainne, msaa, comasach air grunn phàirtean gnàthaichte a thoirt seachad airson gnìomhachas semiconductor agus photovoltaic. Tha an sgioba teignigeach againn a’ tighinn bho phrìomh ionadan rannsachaidh dachaigheil, is urrainn dhaibh barrachd fhuasglaidhean stuthan proifeasanta a thoirt dhut.

Tha sinn an-còmhnaidh a’ leasachadh phròiseasan adhartach gus stuthan nas adhartaiche a thoirt seachad, agus tha sinn air teicneòlas peutant sònraichte obrachadh a-mach, a dh’ fhaodas an ceangal eadar an còmhdach agus an t-substrate a dhèanamh nas teinne agus nas buailtiche a bhith air a sgaradh.

Feartan ar bathar:

1. Àrd teòthachd oxidation strì suas gu 1700 ℃.
2. Àrd purity agus teirmeach èideadh
3. Sàr-aghaidh meirg: searbhag, alkali, salann agus reagents organach.
4. Cruas àrd, uachdar teann, mìrean mìn.
5. Beatha seirbheis nas fhaide agus nas seasmhaiche

Tha fàilte chridheil oirbh tadhal air an fhactaraidh againn, leig leinn tuilleadh deasbaid a bhith againn!