Àrd Purity CVD Solid SiC Bulk

Ìomhaigh sònraichte le CVD Solid SiC Bulk

Tuairisgeul goirid:

Tha fàs luath de chriostalan singilte SiC a’ cleachdadh stòran mòra CVD-SiC (Cemical Vapor Deposition - SiC) na dhòigh cumanta airson stuthan criostail singilte SiC àrd-inbhe ullachadh. Faodar na criostalan singilte sin a chleachdadh ann an grunn thagraidhean, a ’toirt a-steach innealan dealanach àrd-chumhachd, innealan optoelectronic, mothachairean, agus innealan semiconductor.

Cuir post-d thugainn Luchdaich sìos mar PDF

Mion-fhiosrachadh toraidh

Bathar Tags

Bidh VET Energy a’ cleachdadh purrachd fìor àrdsilicon carbide (SiC)air a chruthachadh le tasgadh vapor ceimigeach(CVD)mar bhun-stuth airson fàsCriostalan SiCle còmhdhail bhalbhaichean corporra (PVT). Ann am PVT, tha an stuth tùsail air a luchdachadh a-steach do aceusadhagus sublimated air criostal sìl.

Tha feum air stòr fìor-ghlan gus càileachd àrd a dhèanamhCriostalan SiC.

Tha VET Energy a’ speisealachadh ann a bhith a’ toirt seachad SiC mòr-ghràin airson PVT leis gu bheil dùmhlachd nas àirde aige na stuthan gràinean beaga air an cruthachadh le bhith a’ losgadh gun fhiosta de ghasaichean anns a bheil Si agus C. Eu-coltach ri sintering ìre cruaidh no freagairt Si agus C, chan eil feum air fùirneis sintering sònraichte no ceum sintering ùineail ann an fhùirneis fàis. Tha ìre gluasaid cha mhòr seasmhach aig an stuth mòr-ghràin seo, a leasaicheas èideadh ruith-gu-ruith.

Ro-ràdh:
1. Ullaich stòr bloc CVD-SiC: An toiseach, feumaidh tu stòr bloc CVD-SiC de chàileachd àrd ullachadh, a tha mar as trice de fhìor-ghlan agus dùmhlachd àrd. Faodar seo ullachadh le dòigh tasgadh bhalbhaichean ceimigeach (CVD) fo chumhachan freagairt iomchaidh.

2. Ullachadh substrate: Tagh substrate iomchaidh mar an t-substrate airson fàs criostail singilte SiC. Am measg stuthan substrate a thathas a’ cleachdadh gu cumanta tha silicon carbide, silicon nitride, msaa, aig a bheil deagh mhaidseadh ris a’ chriostail singilte SiC a tha a’ fàs.

3. Teasachadh agus sublimation: Cuir stòr agus substrate bloc CVD-SiC ann am fùirneis àrd-teòthachd agus thoir seachad suidheachaidhean sublimation iomchaidh. Tha sublimation a’ ciallachadh, aig teòthachd àrd, gum bi an stòr bloca ag atharrachadh gu dìreach bho staid chruaidh gu staid bhalbhaichean, agus an uairsin ag ath-dhlùthadh air uachdar an t-substrate gus aon chriostal a chruthachadh.

4. Smachd teothachd: Rè a 'phròiseas sublimation, feumar smachd mionaideach a chumail air caisead teòthachd agus cuairteachadh teòthachd gus sublimation an stòr bloca agus fàs criostalan singilte a bhrosnachadh. Faodaidh smachd teothachd iomchaidh càileachd criostal agus ìre fàis a choileanadh.

5. Atmosphere smachd: Rè sublimation phròiseas, an reaction àile cuideachd feumar smachd a chumail. Bidh gas inert àrd-ghlan (leithid argon) mar as trice air a chleachdadh mar ghas giùlain gus cuideam agus purrachd iomchaidh a chumail suas agus gus casg a chuir air truailleadh le neo-chunbhalachd.

6. Fàs criostail singilte: Bidh an stòr bloc CVD-SiC a’ dol tro ghluasad ìre bhalbhaichean tron phròiseas sublimation agus ag ath-dhùmhlachadh air uachdar an t-substrate gus aon structar criostail a chruthachadh. Faodar fàs luath de chriostalan singilte SiC a choileanadh tro chumhachan sublimation iomchaidh agus smachd caisead teothachd.