Bàta grafait C/C airson Silicon Wafer PECVD

Bàta grafait air a chleachdadh ann am PECVD de loidhne cinneasachaidh cealla grèine

Feumaidh cinneasachadh cheallan grèine sia prìomh phròiseasan: teacsadh, sgaoileadh, msaa, còmhdach, clò-bhualadh sgrion agus sintering. Ann a bhith a’ dèanamh cheallan grèine, bidh pròiseas còmhdach tiùba PECVD a’ cleachdadh bàta grafait mar a’ bhuidheann obrach. Bidh am pròiseas còmhdachaidh a’ cleachdadh tasgadh bhalbhaichean ceimigeach leasaichte plasma gus film silicon nitride a thasgadh air beulaibh an wafer silicon gus faileas solas na grèine agus uachdar an wafer silicon a lughdachadh.

Feartan ar bàta grafait PECVD:
1). Air a ghabhail os làimh gus cuir às do theicneòlas “lionsa dath”, gus dèanamh cinnteach às aonais “lionsa coloe” tron ​​​​phròiseas fad-ùine.
2). Air a dhèanamh den stuth grafait a chaidh a thoirt a-steach le fìor fhìor-ghlan, susbaint neo-chunbhalachd ìosal agus neart àrd.
3). A’ cleachdadh an ceirmeag 99.9% airson a’ cho-chruinneachadh ceirmeag le coileanadh làidir an aghaidh creimeadh agus dearbhadh brùid.
4). A’ cleachdadh an uidheamachd giullachd mionaideachd gus dèanamh cinnteach à cruinneas gach pàirt.

Sònrachadh

Tha Ningbo VET Energy Technology Co., Earranta na iomairt àrdteicneòlais le fòcas air cinneasachadh agus reic stuthan adhartach àrd, na stuthan agus an teicneòlas a’ toirt a-steach grafait, carbide sileacain, ceirmeag, làimhseachadh uachdar leithid còmhdach SiC, còmhdach TaC, carbon glainne. còmhdach, còmhdach gualain pyrolytic, msaa, tha na toraidhean sin air an cleachdadh gu farsaing ann an photovoltaic, semiconductor, lùth ùr, meatailteachd, msaa.

Tha an sgioba teignigeach againn a’ tighinn bho phrìomh ionadan rannsachaidh dachaigheil, agus tha iad air grunn theicneòlasan peutant a leasachadh gus dèanamh cinnteach à coileanadh toraidh agus càileachd, is urrainn dhaibh cuideachd fuasglaidhean stuthan proifeasanta a thoirt do luchd-ceannach.