Nuacht

Cad iad na bacainní teicniúla ar chomhdhúile sileacain?Ⅱ
le admin ar 24-05-22
Áirítear ar na deacrachtaí teicniúla maidir le sliseog chomhdhúile sileacain ardchaighdeáin mais-tháirgeadh go cobhsaí le feidhmíocht chobhsaí: 1) Ós rud é go gcaithfidh criostail fás i dtimpeallacht séalaithe ardteochta os cionn 2000 ° C, tá na ceanglais rialaithe teochta an-ard; 2) Ós rud é go bhfuil níos mó ag carbide sileacain ...
Léigh níos mó
Cad iad na bacainní teicniúla ar chomhdhúile sileacain?
le admin ar 24-05-22
Tá an chéad ghlúin d'ábhair leathsheoltóra léirithe ag sileacain traidisiúnta (Si) agus gearmáiniam (Ge), atá mar bhunús le déantúsaíocht chiorcaid chomhtháite. Úsáidtear go forleathan iad i dtrasraitheoirí agus brathadóirí íseal-voltais, íseal-minicíochta agus ísealchumhachta. Níos mó ná 90% de tháirgí leathsheoltóra...
Léigh níos mó
Conas a dhéantar micrea-phúdar SiC?
le admin ar 24-05-13
Is ábhar leathsheoltóra cumaisc Grúpa IV-IV é criostail shingil SiC atá comhdhéanta de dhá eilimint, Si agus C, i gcóimheas stoichiometric de 1:1. Níl a chruas sa dara háit ach le diamant. Tá an modh laghdaithe carbóin ar ocsaíd sileacain chun SiC a ullmhú bunaithe go príomha ar an bhfoirmle imoibrithe ceimiceach seo a leanas ...
Léigh níos mó
Conas a chuidíonn sraitheanna epitaxial le feistí leathsheoltóra?
le admin ar 24-05-13
Bunús an ainm wafer epitaxial Gcéad dul síos, a ligean ar popularize coincheap beag: folaíonn ullmhú wafer dhá nasc mhór: ullmhú tsubstráit agus próiseas epitaxial. Is wafer é an tsubstráit déanta as ábhar criostail aonair leathsheoltóra. Is féidir leis an tsubstráit dul isteach go díreach sa déantúsaíocht wafer ...
Léigh níos mó
Réamhrá do theicneolaíocht sil-scannán tanaí maidir le sil-leagan ceimiceach gaile (CVD).
le admin ar 24-05-06
Is teicneolaíocht thábhachtach um thaisceadh scannán tanaí é Teistíocht Gal Cheimiceach (CVD), a úsáidtear go minic chun scannáin fheidhmiúla éagsúla agus ábhair shraith tanaí a ullmhú, agus úsáidtear go forleathan é i ndéantúsaíocht leathsheoltóra agus réimsí eile. 1. Prionsabal oibre CVD Sa phróiseas CVD, déantar réamhtheachtaí gáis (ceann amháin nó mó...
Léigh níos mó
An rún “ór dubh” atá taobh thiar den tionscal leathsheoltóra fótavoltach: an dúil agus an spleáchas ar ghraifít iseastatach
le admin ar 24-05-06
Is ábhar an-tábhachtach é graifít isostatach i bhfótavoltach agus i leathsheoltóirí. Le méadú tapa cuideachtaí graifíte isostatach baile, tá monaplacht cuideachtaí eachtracha sa tSín briste. Le taighde agus forbairt neamhspleách leanúnach agus cinn teicneolaíochta, tá an ...
Léigh níos mó
Tréithe Riachtanacha na mBád Graifíte i Déantúsaíocht Ceirmeacht Leathsheoltóra a Nochtadh
le admin ar 24-04-22
Tá ról ríthábhachtach ag Báid Graphite, ar a dtugtar báid graifíte freisin, i bpróisis intricate déantúsaíochta criadóireachta leathsheoltóra. Feidhmíonn na soithí speisialaithe seo mar iompróirí iontaofa le haghaidh sliseog leathsheoltóra le linn cóireálacha ardteochta, rud a chinntíonn próiseáil bheacht agus rialaithe. Le ...
Léigh níos mó
Mínítear go mion struchtúr inmheánach an trealaimh feadáin foirnéise
le admin ar 24-04-22
Mar a léirítear thuas, tá tipiciúil An chéad leath: Eilimint Téamh (corna téimh): suite timpeall an fheadáin foirnéise, déanta as sreanga friotaíochta de ghnáth, a úsáidtear chun an taobh istigh den fheadán foirnéise a théamh. Feadán Grianchloch: Croílár foirnéise ocsaídiúcháin te, déanta as Grianchloch ard-íonachta is féidir a sheasamh...
Léigh níos mó
Éifeachtaí tsubstráit SiC agus ábhair epitaxial ar shaintréithe gléas MOSFET
le admin ar 24-04-16
Locht triantánach Is iad lochtanna triantánacha na lochtanna moirfeolaíocha is marfach i sraitheanna epitaxial SIC. Léirigh líon mór tuarascálacha litríochta go bhfuil baint ag foirmiú lochtanna triantánacha leis an bhfoirm criostail 3C. Mar sin féin, mar gheall ar mheicníochtaí fáis éagsúla, tá moirfeolaíocht go leor tr...
Léigh níos mó