نگهدارنده ویفر بستر گرافیت انرژی VET یک حامل دقیق است که برای فرآیند PECVD (رسوبدهی بخار شیمیایی افزایش یافته پلاسما) طراحی شده است. این نگهدارنده زیرلایه گرافیت با کیفیت بالا از مواد گرافیتی با خلوص بالا و چگالی بالا ساخته شده است، با مقاومت عالی در دمای بالا، مقاومت در برابر خوردگی، پایداری ابعادی و سایر مشخصات. این می تواند یک پلت فرم پشتیبانی پایدار برای فرآیند PECVD فراهم کند و از یکنواختی و صافی رسوب فیلم اطمینان حاصل کند.
جدول پشتیبانی ویفر گرافیت فرآیند PECVD انرژی VET دارای ویژگی های زیر است:
▪خلوص بالا:محتوای ناخالصی بسیار کم، از آلودگی فیلم جلوگیری کنید، کیفیت فیلم را تضمین کنید.
▪چگالی بالا:چگالی بالا، استحکام مکانیکی بالا، می تواند در دمای بالا و محیط PECVD فشار بالا مقاومت کند.
▪ثبات ابعادی خوب:تغییر ابعاد کوچک در دمای بالا، تضمین ثبات فرآیند.
▪هدایت حرارتی عالی:انتقال موثر گرما برای جلوگیری از گرم شدن بیش از حد ویفر.
▪مقاومت در برابر خوردگی قوی:می تواند در برابر فرسایش توسط گازهای خورنده مختلف و پلاسما مقاومت کند.
▪خدمات سفارشی:میزهای پشتیبانی گرافیت در اندازه ها و اشکال مختلف را می توان با توجه به نیاز مشتری سفارشی کرد.
مزایای محصول
▪بهبود کیفیت فیلم:اطمینان از رسوب یکنواخت فیلم و بهبود کیفیت فیلم.
▪افزایش عمر تجهیزات:مقاومت در برابر خوردگی عالی، عمر مفید تجهیزات PECVD را افزایش می دهد.
▪کاهش هزینه های تولید:سینی های گرافیتی با کیفیت بالا می توانند نرخ ضایعات را کاهش داده و هزینه های تولید را کاهش دهند.
مواد گرافیت از SGL:
| پارامتر معمولی: R6510 | |||
| شاخص | استاندارد تست | ارزش | واحد |
| اندازه دانه متوسط | ISO 13320 | 10 | میکرومتر |
| چگالی ظاهری | DIN IEC 60413/204 | 1.83 | گرم بر سانتی متر3 |
| تخلخل باز | DIN66133 | 10 | % |
| اندازه منافذ متوسط | DIN66133 | 1.8 | میکرومتر |
| نفوذپذیری | DIN 51935 | 0.06 | سانتی متر مربع در ثانیه |
| سختی راکول HR5/100 | DIN IEC60413/303 | 90 | HR |
| مقاومت الکتریکی خاص | DIN IEC 60413/402 | 13 | μΩm |
| استحکام خمشی | DIN IEC 60413/501 | 60 | MPa |
| مقاومت فشاری | DIN 51910 | 130 | MPa |
| مدول یانگ | DIN 51915 | 11.5×10³ | MPa |
| انبساط حرارتی (20-200 ℃) | DIN 51909 | 4.2X10-6 | K-1 |
| هدایت حرارتی (20℃) | DIN 51908 | 105 | Wm-1K-1 |
این به طور خاص برای تولید سلول های خورشیدی با راندمان بالا طراحی شده است و از پردازش ویفر با اندازه بزرگ G12 پشتیبانی می کند. طراحی حامل بهینه به طور قابل توجهی توان عملیاتی را افزایش می‌دهد و نرخ بازده بالاتر و هزینه‌های تولید پایین‌تر را ممکن می‌سازد.
| مورد | تایپ کنید | حامل ویفر شماره |
| PEVCD Grephite boat - سری 156 | قایق گرفیت 156-13 | 144 |
| قایق گرافیت 156-19 | 216 | |
| قایق گرافیت 156-21 | 240 | |
| قایق گرافیتی 156-23 | 308 | |
| PEVCD Grephite boat - سری 125 | قایق گرفیت 125-15 | 196 |
| قایق گرافیت 125-19 | 252 | |
| قایق grphite 125-21 | 280 |
