Epitaksiaalne epitaksiaalne grafiittünn sustseptor

Epitaksiaalne epitaksiaalne grafiittünn sustseptor

Epitaksiaalne epitaksiaalne grafiittünn sustseptoron spetsiaalselt projekteeritud tugi- ja kütteseade, mida kasutatakse pooljuhtsubstraatide hoidmiseks ja soojendamiseks tootmisprotsesside ajal, nagu sadestamine või epitakseerimine.

Selle struktuur on tavaliselt silindriline või kergelt tünnikujuline, pinnal on mitu taskut või platvormi vahvlite paigutamiseks, see võib olenevalt kuumutusmeetodist olla tahke või õõnsa konstruktsiooniga.

Epitaksiaalse tünni sustseptori peamised funktsioonid:

-Substraadi tugi: hoiab kindlalt mitu pooljuhtplaati;
-Soojusallikas: tagab kuumutamise kaudu kasvuks vajalikke kõrgeid temperatuure;
-Temperatuuri ühtlus: tagab aluspindade ühtlase kuumutamise;
-Pöörlemine: tavaliselt pöörleb kasvu ajal, et parandada temperatuuri ja gaasijaotuse ühtlust.

Epi grafiidist tünni sustseptori tööpõhimõte:
- Epitaksiaalreaktoris kuumutatakse silindri sustseptor vajaliku temperatuurini (tavaliselt 1000–1200 ℃ räni epitaksi puhul);
-Tünni sustseptor pöörleb, et tagada ühtlane temperatuurijaotus ja gaasivool;
-Reaktsioonigaasid lagunevad kõrgel temperatuuril, moodustades substraadi pinnale epitaksiaalsed kihid.

Rakendused:
- Kasutatakse peamiselt räni epitaksiaalseks kasvatamiseks
-Sobib ka muude pooljuhtmaterjalide nagu GaAs, InP jne epitakseerimiseks.

VET Energy kasutab keemilise stabiilsuse suurendamiseks kõrge puhtusastmega grafiiti CVD-SiC kattega:

VET Energy Epitaxial Epi Graphite Barrel Susceptori eelised:

- Kõrge temperatuuri stabiilsus;
- Hea termiline ühtlus;
- Saab töödelda mitut substraati korraga, parandades tootmise efektiivsust;
-Keemiliselt inertne, säilitades kõrge puhtusastmega kasvukeskkonna.