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  • BJT, CMOS, DMOS y otras tecnologías de procesos de semiconductores

    BJT, CMOS, DMOS y otras tecnologías de procesos de semiconductores

    Bienvenido a nuestro sitio web para obtener información y consultas sobre productos. Nuestro sitio web: https://www.vet-china.com/ A medida que los procesos de fabricación de semiconductores continúan logrando avances, una famosa declaración llamada "Ley de Moore" ha estado circulando en la industria. Fue p...
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  • Grabado de flujo del proceso de modelado de semiconductores

    Grabado de flujo del proceso de modelado de semiconductores

    El grabado húmedo temprano promovió el desarrollo de procesos de limpieza o incineración. Hoy en día, el grabado en seco mediante plasma se ha convertido en el proceso de grabado habitual. El plasma está formado por electrones, cationes y radicales. La energía aplicada al plasma hace que los electrones más externos del t...
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  • Investigación sobre horno epitaxial de SiC de 8 pulgadas y proceso homoepitaxial-Ⅱ

    Investigación sobre horno epitaxial de SiC de 8 pulgadas y proceso homoepitaxial-Ⅱ

    2 Resultados experimentales y discusión 2.1 Espesor y uniformidad de la capa epitaxial El espesor de la capa epitaxial, la concentración de dopaje y la uniformidad son uno de los indicadores principales para juzgar la calidad de las obleas epitaxiales. Espesor controlable con precisión, dopaje co...
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  • Investigación sobre horno epitaxial de SiC de 8 pulgadas y proceso homoepitaxial-Ⅰ

    Investigación sobre horno epitaxial de SiC de 8 pulgadas y proceso homoepitaxial-Ⅰ

    Actualmente, la industria del SiC se está transformando de 150 mm (6 pulgadas) a 200 mm (8 pulgadas). Para satisfacer la demanda urgente de obleas homeepitaxiales de SiC de gran tamaño y alta calidad en la industria, se prepararon con éxito obleas homoepitaxiales de 4H-SiC de 150 mm y 200 mm en do...
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  • Optimización de la estructura de poros de carbono poroso -Ⅱ

    Optimización de la estructura de poros de carbono poroso -Ⅱ

    Bienvenido a nuestro sitio web para obtener información y consultas sobre productos. Nuestro sitio web: https://www.vet-china.com/ Método de activación física y química El método de activación física y química se refiere al método de preparación de materiales porosos combinando las dos actividades anteriores...
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  • Optimización de la estructura de poros de carbono poroso-Ⅰ

    Optimización de la estructura de poros de carbono poroso-Ⅰ

    Bienvenido a nuestro sitio web para obtener información y consultas sobre productos. Nuestro sitio web: https://www.vet-china.com/ Este artículo analiza el mercado actual del carbón activado, realiza un análisis en profundidad de las materias primas del carbón activado, presenta la estructura de los poros...
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  • Flujo de proceso de semiconductores-Ⅱ

    Flujo de proceso de semiconductores-Ⅱ

    Bienvenido a nuestro sitio web para obtener información y consultas sobre productos. Nuestro sitio web: https://www.vet-china.com/ Grabado de Poly y SiO2: Después de esto, el exceso de Poly y SiO2 se elimina, es decir, se elimina. En este momento se utiliza el grabado direccional. En la clasificación...
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  • Flujo del proceso de semiconductores

    Flujo del proceso de semiconductores

    Puedes entenderlo incluso si nunca has estudiado física o matemáticas, pero es demasiado simple y adecuado para principiantes. Si desea saber más sobre CMOS, debe leer el contenido de este número, porque solo después de comprender el flujo del proceso (es decir...
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  • Fuentes de contaminación y limpieza de obleas semiconductoras

    Fuentes de contaminación y limpieza de obleas semiconductoras

    Algunas sustancias orgánicas e inorgánicas deben participar en la fabricación de semiconductores. Además, dado que el proceso siempre se lleva a cabo en una sala limpia con participación humana, las obleas semiconductoras inevitablemente se contaminan con diversas impurezas. Acc...
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