Epitaxial Epi-Graphite Barrel Susceptor

Epitaxial Epi-Graphite Barrel Susceptor

Epitaxial Epi-Graphite Barrel Susceptorestas speciale desegnita subteno kaj hejtado aparato uzata por teni kaj varmigi semikonduktaĵsubstratojn dum produktadaj procezoj kiel Deponaĵo aŭ Epitaksio-procezoj.

Ĝia strukturo inkludas tipe cilindrajn aŭ iomete barelformajn, surfaco prezentas multoblajn poŝojn aŭ platformojn por meti la oblatojn, povas esti solida aŭ kava dezajno, depende de la hejtado-metodo.

La ĉefaj funkcioj de epitaksa barelsubceptoro:

-Substratsubteno: sekure tenas plurajn duonkonduktajn oblatojn;
- Varmofonto: provizas altajn temperaturojn necesajn por kresko per hejtado;
-Temperatura unuformeco: certigas unuforman hejton de substratoj;
-Rotacio: kutime turniĝas dum kresko por plibonigi temperaturon kaj gas-distribuon unuformecon.

Funkcia principo de Epi-grafita barela susceptor:
- En la epitaksia reaktoro, la barela susceptoro estas varmigita al la bezonata temperaturo (tipe 1000℃-1200℃ por silicia epitaksio);
-La barela susceptoro turniĝas por certigi uniforman temperaturdistribuon kaj gasfluon;
-Reakciaj gasoj putriĝas ĉe altaj temperaturoj, formante epitaksiajn tavolojn sur la substrata surfaco.

Aplikoj:
-Ĉefe uzata por silicia epitaksia kresko
-Ankaŭ aplikebla por epitaksio de aliaj semikonduktaĵoj kiel GaAs, InP, ktp.

VET Energy uzas altpuran grafiton kun CVD-SiC-tegaĵo por plibonigi la kemian stabilecon:

La avantaĝoj de VET Energy Epitaxial Epi Graphite Barrel Susceptor:

-Alta temperatura stabileco;
-Bona termika unuformeco;
-Povas prilabori plurajn substratojn samtempe, plibonigante produktan efikecon;
-Kemia inerta, konservante altpuran kreskan medion.