Wie oben gezeigt, ist dies ein typisches Beispiel.
Die erste Hälfte:
▪ Heizelement (Heizspirale):
Sie befinden sich um das Ofenrohr herum und bestehen üblicherweise aus Widerstandsdrähten, die dazu dienen, das Innere des Ofenrohrs zu erhitzen.
▪ Quarzrohr:
Der Kern eines Heißoxidationsofens besteht aus hochreinem Quarz, der hohen Temperaturen standhält und chemisch inert bleibt.
▪ Gaszufuhr:
Sie befindet sich oben oder seitlich am Ofenrohr und dient dem Transport von Sauerstoff oder anderen Gasen in das Innere des Ofenrohrs.
▪ Edelstahlflansch:
Bauteile, die Quarzrohre und Gasleitungen verbinden und so die Dichtheit und Stabilität der Verbindung gewährleisten.
▪ Gaszuleitungen:
Rohrleitungen, die die MFC mit dem Gasanschluss für die Gasübertragung verbinden.
▪ MFC (Massenflussregler):
Ein Gerät, das den Gasfluss in einem Quarzrohr steuert, um die benötigte Gasmenge präzise zu regulieren.
▪ Ventil:
Dient dazu, die Abgase aus dem Inneren des Ofenrohrs nach außen abzuführen.
Unterteil:
▪ Siliziumwafer im Halter:
Die Siliziumwafer werden in einem speziellen Halter untergebracht, um eine gleichmäßige Wärmeverteilung während der Oxidation zu gewährleisten.
▪ Waferhalter:
Dient dazu, den Siliziumwafer zu halten und sicherzustellen, dass der Siliziumwafer während des Prozesses stabil bleibt.
▪ Sockel:
Eine Struktur zur Aufnahme eines Siliziumwafers. Der Halter besteht üblicherweise aus einem hochtemperaturbeständigen Material.
▪ Aufzug:
Wird verwendet, um Waferhalter in und aus Quarzrohren zum automatischen Be- und Entladen von Siliziumwafern zu heben.
▪ Wafer-Transferroboter:
Das Gerät befindet sich an der Seite des Ofenrohrs und dient dazu, den Siliziumwafer automatisch aus der Box zu entnehmen und in das Ofenrohr einzulegen oder ihn nach der Bearbeitung zu entnehmen.
▪ Kassettenaufbewahrungskarussell:
Das Kassettenlagerkarussell dient zur Aufbewahrung einer Box mit Siliziumwafern und kann für den Zugriff durch Roboter gedreht werden.
▪ Waffelkassette:
Die Waferkassette dient zur Aufbewahrung und zum Transport der zu verarbeitenden Siliziumwafer.
Veröffentlichungsdatum: 22. April 2024
