Der innere Aufbau der Ofenrohrausrüstung wird ausführlich erläutert

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Wie oben gezeigt, ist ein typisches

Die erste Hälfte:
Heizelement (Heizspule): um das Ofenrohr herum angeordnet, meist aus Widerstandsdrähten gefertigt, dient zum Erhitzen des Inneren des Ofenrohrs.
Quarzrohr: Der Kern eines heißen Oxidationsofens, hergestellt aus hochreinem Quarz, der hohen Temperaturen standhält und chemisch inert bleibt.
Gaszufuhr: Befindet sich oben oder an der Seite des Ofenrohrs und dient zum Transport von Sauerstoff oder anderen Gasen in das Innere des Ofenrohrs.
SS-Flansch: Komponenten, die Quarzrohre und Gasleitungen verbinden und die Dichtheit und Stabilität der Verbindung gewährleisten.
Gaszuleitungen: Rohre, die den MFC zur Gasübertragung mit dem Gasversorgungsanschluss verbinden.
MFC (Mass Flow Controller): Ein Gerät, das den Gasfluss in einem Quarzrohr steuert, um die benötigte Gasmenge präzise zu regulieren.
Entlüftung: Wird verwendet, um das Abgas aus dem Inneren des Ofenrohrs zur Außenseite des Geräts zu entlüften.

Unterer Teil
Siliziumwafer im Halter: Siliziumwafer werden in einem speziellen Halter untergebracht, um eine gleichmäßige Hitze während der Oxidation zu gewährleisten.
Waferhalter: Wird verwendet, um den Siliziumwafer zu halten und sicherzustellen, dass der Siliziumwafer während des Prozesses stabil bleibt.
Sockel: Eine Struktur, die einen Siliziumwaferhalter hält, normalerweise aus einem hochtemperaturbeständigen Material.
Aufzug: Wird zum Heben von Waferhaltern in und aus Quarzrohren zum automatischen Be- und Entladen von Siliziumwafern verwendet.
Wafer-Transfer-Roboter: Er befindet sich an der Seite des Ofenrohrgeräts und wird verwendet, um den Siliziumwafer automatisch aus der Box zu entnehmen und in das Ofenrohr zu legen oder ihn nach der Verarbeitung zu entfernen.
Kassetten-Aufbewahrungskarussell: Das Kassetten-Aufbewahrungskarussell wird zur Aufbewahrung einer Kiste mit Siliziumwafern verwendet und kann für den Roboterzugriff gedreht werden.
Wafer-Kassette: Die Wafer-Kassette dient zur Lagerung und zum Transport der zu verarbeitenden Siliziumwafer.


Zeitpunkt der Veröffentlichung: 22. April 2024
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