SiC-Kristallzuchtmaterialien der neuen Generation

Mit der schrittweisen Massenproduktion leitfähiger SiC-Substrate steigen die Anforderungen an die Stabilität und Reproduzierbarkeit des Prozesses. Insbesondere die Kontrolle von Defekten, wie z. B. geringfügige Anpassungen oder Abweichungen des Wärmefelds im Ofen, kann Kristallveränderungen oder eine Zunahme von Defekten verursachen. Zukünftig müssen wir uns der Herausforderung stellen, „schnell, lang und dick zu wachsen und in die Höhe zu wachsen“. Neben der Verbesserung von Theorie und Technik benötigen wir auch fortschrittlichere Wärmefeldmaterialien als Trägermaterial. Durch den Einsatz fortschrittlicher Materialien lassen sich fortschrittliche Kristalle züchten.

Unsachgemäße Verwendung von Tiegelmaterialien wie Graphit, porösem Graphit, Tantalcarbidpulver usw. im Heißfeld führt zu Defekten wie vermehrten Kohlenstoffeinschlüssen. Zudem ist die Permeabilität von porösem Graphit in manchen Anwendungen unzureichend, sodass zusätzliche Löcher zur Erhöhung der Permeabilität erforderlich sind. Die Weiterverarbeitung von hochpermeablem porösem Graphit ist jedoch mit Herausforderungen bei der Pulverentfernung, dem Ätzen usw. verbunden.

VET stellt eine neue Generation von SiC-Kristallwachstumsmaterialien für thermische Felder vor: poröses Tantalcarbid. Eine Weltpremiere.

Tantalcarbid zeichnet sich durch hohe Festigkeit und Härte aus, seine Porosität zu erreichen, stellt jedoch eine Herausforderung dar. Insbesondere die Herstellung von porösem Tantalcarbid mit hoher Porosität und Reinheit ist eine große Herausforderung. Hengpu Technology hat nun ein bahnbrechendes poröses Tantalcarbid mit einer maximalen Porosität von 75 % auf den Markt gebracht und ist damit weltweit führend.

Die Filtration von Gasphasenkomponenten, die Anpassung lokaler Temperaturgradienten, die Steuerung der Materialströmung und die Leckagekontrolle sind weitere Anwendungsgebiete. In Kombination mit anderen festen Tantalcarbid-Komponenten (kompakt) oder Tantalcarbid-Beschichtungen von Hengpu Technology lassen sich lokale Komponenten mit unterschiedlicher Strömungsleitfähigkeit herstellen.

Einige Komponenten können wiederverwendet werden.

Tantalcarbid (TaC)-Beschichtung (2)


Veröffentlichungsdatum: 14. Juli 2023
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