Tilpasset grafitvarmer til halvledersiliciumwafer, SiC-belægning

Tilpasset grafitvarmer til halvledersiliciumwafer, SiC-belægning Udvalgt billede

Kort beskrivelse:

Teknisk specifikation	VET-M3
Bulkdensitet (g/cm3)	≥1,85
Askeindhold (PPM)	≤500
Shore hårdhed	≥45
Specifik modstand (μ.Ω.m)	≤12
Bøjestyrke (Mpa)	≥40
Kompressionsstyrke (Mpa)	≥70
Maks. Kornstørrelse (μm)	≤43
Termisk udvidelseskoefficient Mm/°C	≤4,4*10-6

Send e-mail til os Download som PDF

Produktdetaljer

Produkt Tags

TilpassetGrafitvarmer til Semiconductor Silicon Wafer

Teknisk specifikation	VET-M3
Bulkdensitet (g/cm3)	≥1,85
Askeindhold (PPM)	≤500
Shore hårdhed	≥45
Specifik modstand (μ.Ω.m)	≤12
Bøjestyrke (Mpa)	≥40
Kompressionsstyrke (Mpa)	≥70
Maks. Kornstørrelse (μm)	≤43
Termisk udvidelseskoefficient Mm/°C	≤4,4*10-6

Tilpasset grafitvarmer til halvledersiliciumwafer

Tilpasset grafitvarmer til halvledersiliciumwafer

Tilpasset grafitvarmer til halvledersiliciumwafer

Tilpasset grafitvarmer til halvledersiliciumwafer

Tilpasset grafitvarmer til halvledersiliciumwafer

Tidligere: Tilpasset grafitvarmer til varm zone/ grafit termisk felt

Næste: Grafitvarmer Siliciumcarbid (SiC) SiC-belægning SiC-belagt

RELATEREDE PRODUKTER

WhatsApp online chat!