Grafitové nosiče MOCVD povlaku SiC, grafitové susceptory pro epitaxi SiC

Grafitové nosiče plátků MOCVD s povlakem SiC, grafitové susceptory pro epitaxi SiC Vybraný obrázek

Krátký popis:

SiC povlak grafitového substrátu pro polovodičové aplikace vytváří součást s vynikající čistotou a odolností vůči oxidační atmosféře. CVD SiC nebo CVI SiC se aplikuje na grafit jednoduchých nebo složitých konstrukčních dílů. Nátěr lze nanášet v různých tloušťkách a na velmi velké díly.

Místo původu:Zhejiang, Čína (pevnina)

Číslo modelu:Číslo modelu:

Chemické složení:Grafit potažený SiC

Pevnost v ohybu:470 Mpa

Tepelná vodivost:300 W/mK

Kvalitní:Perfektní

Funkce:CVD-SiC

Aplikace:Polovodič / Fotovoltaika

Hustota:3,21 g/cc

Tepelná roztažnost:4 10-6/K

Popel: <5 ppm

Ochutnat:K dispozici

HS kód:6903100000

Pošlete nám e-mail Stáhnout jako PDF

Detail produktu

Štítky produktu

SiC povlak grafitové MOCVD nosiče plátků， grafitové susceptory proSiC epitaxe,
Uhlík dodává susceptory, Grafitové epitaxní susceptory, Grafitové nosné substráty, Susceptor MOCVD, SiC epitaxe, Susceptory plátků,

Mezi speciální výhody našich grafitových susceptorů potažených SiC patří extrémně vysoká čistota, homogenní povlak a vynikající životnost. Mají také vysokou chemickou odolnost a tepelnou stabilitu.

SiC povlak grafitového substrátu pro polovodičové aplikace vytváří součást s vynikající čistotou a odolností vůči oxidační atmosféře.
CVD SiC nebo CVI SiC se aplikuje na grafit jednoduchých nebo složitých konstrukčních dílů. Nátěr lze nanášet v různých tloušťkách a na velmi velké díly.

SiC povlak/potažený MOCVD susceptor

Vlastnosti:
· Vynikající odolnost proti tepelným šokům
· Vynikající odolnost proti fyzickým nárazům
· Vynikající chemická odolnost
· Super vysoká čistota
· Dostupnost v komplexním tvaru
· Použitelné v oxidační atmosféře

Aplikace:

Typické vlastnosti základního grafitového materiálu:

Zdánlivá hustota:	1,85 g/cm3
Elektrický odpor:	11 μΩm
Pevnost v ohybu:	49 MPa (500 kgf/cm2)
Tvrdost Shore:	58
Popel:	<5 ppm
Tepelná vodivost:	116 W/mK (100 kcal/mhr-℃)

Uhlík dodává susceptorya grafitové komponenty pro všechny současné epitaxní reaktory. Naše portfolio zahrnuje válcové susceptory pro aplikované a LPE jednotky, palačinkové susceptory pro LPE, CSD a Gemini jednotky a jednovrstvové susceptory pro aplikované a ASM jednotky. Spojením silných partnerství s předními výrobci OEM, znalostmi materiálů a výrobním know-how SGL nabízí optimální design pro vaši aplikaci.