Zakázkové levné a opakovaně použitelné vysoce čisté grafitové grafitové polovodičové části polovodičových aplikací

Vlastní levné opakovaně použitelné vysoce čisté grafitové grafitové polovodičové aplikace Polovodičové díly Doporučený obrázek

Krátký popis:

Aplikace:	Polovodičové části
Odpor (μΩ.m):	8-10 ohmů
Pórovitost (%):	12 % Max
Místo původu:	Zhejiang, Čína
Rozměry	Přizpůsobené
Velikost zisku:	<=325 mesh
Osvědčení:	ISO9001:2015
Velikost a tvar:	Přizpůsobené

Pošlete nám e-mail Stáhnout jako PDF

Detail produktu

Štítky produktu

Zakázkové levné a opakovaně použitelné vysoce čisté grafitové grafitové polovodičové části polovodičových aplikací

Aplikace:	Polovodičové části
Odpor (μΩ.m):	8-10 ohmů
Pórovitost (%):	12 % Max
Místo původu:	Zhejiang, Čína
Rozměry	Přizpůsobené
Velikost zisku:	<=325 mesh
Osvědčení:	ISO9001:2015
Velikost a tvar:	Přizpůsobené

Zakázkové levné a opakovaně použitelné vysoce čisté grafitové grafitové polovodičové části polovodičových aplikací

Předchozí: Jednoduché inovativní produkty Vynikající tepelná a elektrická vodivost Graphite Semiconductor

Další: SiC povlak/potažený grafitový substrát/zásobník pro polovodiče

SOUVISEJÍCÍ PRODUKTY

WhatsApp online chat!