El suport de recobriment de SiC per a RTP/RTA és un component clau utilitzat en els processos de fabricació de semiconductors anomenats processament tèrmic ràpid i recuit, utilitzem la nostra tecnologia patentada per fer que el portador de carbur de silici tingui una puresa extremadament alta, una bona uniformitat de recobriment i una excel·lent vida útil, ja que així com alta resistència química i propietats d'estabilitat tèrmica.
Característiques dels nostres productes:
1. Resistència a l'oxidació a alta temperatura fins a 1700 ℃.
2. Alta puresa i uniformitat tèrmica
3. Excel·lent resistència a la corrosió: àcid, àlcali, sal i reactius orgànics.
4. Alta duresa, superfície compacta, partícules fines.
5. Vida útil més llarga i més duradora
| CVD SiC薄膜基本物理性能 Propietats físiques bàsiques de CVD SiCrecobriment | |
| 性质 / Propietat | 典型数值 / Valor típic |
| 晶体结构 / Estructura de cristall | Fase β de la FCC多晶，主要为（111）取向 |
| 密度 / Densitat | 3,21 g/cm³ |
| 硬度 / Duresa | 2500 维氏硬度（càrrega de 500 g） |
| 晶粒大小 / Mida del gra | 2 ~ 10 μm |
| 纯度 / Puresa química | 99,99995% |
| 热容 / Capacitat calorífica | 640 J·kg-1·K-1 |
| 升华温度 / Temperatura de sublimació | 2700 ℃ |
| 抗弯强度 / Resistència a la flexió | 415 MPa RT de 4 punts |
| 杨氏模量 / Mòdul de joventut | 430 Gpa de 4 punts, 1300 ℃ |
| 导热系数 / ThermalConductivitat | 300 W·m-1·K-1 |
| 热膨胀系数 / Expansió tèrmica (CTE) | 4,5×10-6K-1 |
VET Energy és l'autèntic fabricant de productes personalitzats de grafit i carbur de silici amb diferents recobriments com el recobriment de SiC, el recobriment de TaC, el recobriment de carboni vidre, el recobriment de carboni pirolític, etc., pot subministrar diverses peces personalitzades per a la indústria de semiconductors i fotovoltaica.
El nostre equip tècnic prové de les principals institucions de recerca nacionals, us pot oferir solucions materials més professionals.
Desenvolupem contínuament processos avançats per proporcionar materials més avançats, i hem elaborat una tecnologia patentada exclusiva, que pot fer que la unió entre el recobriment i el substrat sigui més estreta i menys propensa al despreniment.
Us donem la benvinguda a visitar la nostra fàbrica, anem a parlar més!
