La hòstia SOI de 12 polzades de VET Energy és un material de substrat semiconductor d'alt rendiment, molt afavorit per les seves excel·lents propietats elèctriques i l'estructura única. VET Energy utilitza processos avançats de fabricació d'hòsties SOI per garantir que l'hòstia tingui un corrent de fuga extremadament baix, una alta velocitat i una resistència a la radiació, proporcionant una base sòlida per als vostres circuits integrats d'alt rendiment.
La línia de productes de VET Energy no es limita a les hòsties SOI. També oferim una àmplia gamma de materials de substrat semiconductors, com ara Si Wafer, SiC Substrate, SiN Substrate, Epi Wafer, etc., així com nous materials semiconductors de banda ampla com l'òxid de gal·li Ga2O3 i AlN Wafer. Aquests productes poden satisfer les necessitats d'aplicació de diferents clients en electrònica de potència, RF, sensors i altres camps.
Centrant-se en l'excel·lència, les nostres hòsties SOI també utilitzen materials avançats com l'òxid de gal·li Ga2O3, cassets i hòsties d'AlN per garantir la fiabilitat i l'eficiència a tots els nivells operatius. Confieu en VET Energy per oferir solucions d'avantguarda que obrin el camí cap a l'avenç tecnològic.
Allibera el potencial del teu projecte amb el rendiment superior de les hòsties SOI de 12 polzades de VET Energy. Augmenteu les vostres capacitats d'innovació amb hòsties que encarnen qualitat, precisió i innovació, assentant les bases de l'èxit en el camp dinàmic de la tecnologia de semiconductors. Trieu VET Energy per obtenir solucions d'hòsties SOI premium que superin les expectatives.
ESPECIFICACIONS DE LA HÒBLEA
*n-Pm=n-tipus Pm-Grau, n-Ps=n-tipus Ps-Grau, Sl=Semi-aïllant
Item | 8 polzades | 6 polzades | 4 polzades | ||
nP | n-p.m | n-Ps | SI | SI | |
TTV (GBIR) | ≤6um | ≤6um | |||
Arc (GF3YFCD)-Valor absolut | ≤15μm | ≤15μm | ≤25μm | ≤15μm | |
Deformació (GF3YFER) | ≤25μm | ≤25μm | ≤40μm | ≤25μm | |
LTV (SBIR) - 10 mm x 10 mm | <2 μm | ||||
Vora de l'hòstia | Bisellat |
ACABAT SUPERFICIAL
*n-Pm=n-tipus Pm-Grau, n-Ps=n-tipus Ps-Grau, Sl=Semi-aïllant
Item | 8 polzades | 6 polzades | 4 polzades | ||
nP | n-p.m | n-Ps | SI | SI | |
Acabat superficial | Poliment òptic de doble cara, CMP Si-face | ||||
Rugositat superficial | (10um x 10um) Si-FaceRa≤0,2 nm | (5umx5um) Si-Face Ra≤0.2nm | |||
Xips de vora | Cap permès (longitud i amplada ≥0,5 mm) | ||||
Sagnats | Cap permès | ||||
Esgarrapades (Si-Face) | Quantitat ≤5, acumulat | Quantitat ≤5, acumulat | Quantitat ≤5, acumulat | ||
Esquerdes | Cap permès | ||||
Exclusió de la vora | 3 mm |