የኬሚካል የእንፋሎት ማጠራቀሚያ (CVD) ቀጭን ፊልም ማስቀመጫ ቴክኖሎጂ መግቢያ

የኬሚካል የእንፋሎት ማጠራቀሚያ (ሲቪዲ) አስፈላጊ ቀጭን የፊልም ማስቀመጫ ቴክኖሎጂ ነው, ብዙ ጊዜ የተለያዩ ተግባራዊ ፊልሞችን እና ቀጭን-ንብርብር ቁሳቁሶችን ለማዘጋጀት ጥቅም ላይ ይውላል, እና በሴሚኮንዳክተር ማምረቻ እና ሌሎች መስኮች በስፋት ጥቅም ላይ ይውላል.

1. የሲቪዲ የሥራ መርህ

በሲቪዲ ሂደት ውስጥ አንድ ጋዝ ፕሪከርሰር (አንድ ወይም ከዚያ በላይ የጋዝ ቅድመ-ውህድ ውህዶች) ከመሬት በታች ካለው ወለል ጋር ይገናኛል እና ወደ አንድ የሙቀት መጠን በማሞቅ ኬሚካላዊ ምላሽ እንዲፈጠር እና በተቀባው ወለል ላይ እንዲቀመጥ በማድረግ ተፈላጊውን ፊልም ወይም ሽፋን ይፈጥራል። ንብርብር. የዚህ ኬሚካላዊ ምላሽ ምርት ጠንካራ, ብዙውን ጊዜ የሚፈለገው ቁሳቁስ ድብልቅ ነው. ሲሊከንን ወለል ላይ ለመለጠፍ ከፈለግን ትሪክሎሮሲላንን (SiHCl3) እንደ ቀዳሚ ጋዝ ልንጠቀም እንችላለን፡ SiHCl3 → Si + Cl2 + HCl ሲሊኮን ከማንኛውም የተጋለጠ ገጽ (ከውስጥም ሆነ ከውጭ) ጋር ይያያዛል፣ ክሎሪን እና ሃይድሮክሎሪክ አሲድ ጋዞች ደግሞ ይቀላቀላሉ። ከክፍሉ ይለቀቁ ።

2. የሲቪዲ ምደባ

Thermal CVD: የቅድሚያውን ጋዝ በማሞቅ በመበስበስ እና በንጥረ ነገሮች ላይ ያስቀምጡት. የፕላዝማ የተሻሻለ ሲቪዲ (PECVD): የምላሽ መጠንን ለማሻሻል እና የማስቀመጫ ሂደቱን ለመቆጣጠር ፕላዝማ ወደ ቴርማል ሲቪዲ ይጨመራል። ሜታል ኦርጋኒክ ሲቪዲ (MOCVD)፡- የብረታ ብረት ኦርጋኒክ ውህዶችን እንደ ቅድመ ጋዞች በመጠቀም፣ የብረት እና ሴሚኮንዳክተሮች ስስ ፊልሞች ሊዘጋጁ ይችላሉ፣ እና ብዙ ጊዜ እንደ LED ዎች ያሉ መሳሪያዎችን ለማምረት ያገለግላሉ።

3. ማመልከቻ

(1) ሴሚኮንዳክተር ማምረት

የሲሊሳይድ ፊልም: የማገጃ ንብርብሮች, substrates, ማግለል ንብርብሮች, ወዘተ ለማዘጋጀት ጥቅም ላይ Nitride ፊልም: ሲሊከን nitride, አሉሚኒየም ናይትራይድ, ወዘተ ለማዘጋጀት ጥቅም ላይ LED ዎች, ኃይል መሣሪያዎች, ወዘተ የብረት ፊልም: conductive ንብርብሮችን ለማዘጋጀት ጥቅም ላይ, metallized. ንብርብሮች, ወዘተ.

(2) የማሳያ ቴክኖሎጂ

ITO ፊልም፡- ግልጽነት ያለው ኦክሳይድ ፊልም፣ በተለምዶ በጠፍጣፋ ፓነል ማሳያዎች እና በንክኪ ስክሪኖች ውስጥ ጥቅም ላይ ይውላል። የመዳብ ፊልም: የማሳያ መሳሪያዎችን አፈፃፀም ለማሻሻል የማሸጊያ ንብርብሮችን, የመተላለፊያ መስመሮችን, ወዘተ ለማዘጋጀት ያገለግላል.

(3) ሌሎች መስኮች

የኦፕቲካል ሽፋኖች: ፀረ-ነጸብራቅ ሽፋኖችን, የኦፕቲካል ማጣሪያዎችን, ወዘተ ጨምሮ ፀረ-ዝገት ሽፋን: በአውቶሞቲቭ ክፍሎች, በኤሮስፔስ መሳሪያዎች, ወዘተ.

4. የሲቪዲ ሂደት ባህሪያት

የምላሽ ፍጥነትን ለማስተዋወቅ ከፍተኛ ሙቀት አካባቢን ይጠቀሙ። ብዙውን ጊዜ በቫኩም አከባቢ ውስጥ ይከናወናል. ቀለም ከመቀባቱ በፊት በክፍሉ ወለል ላይ ያሉ ብክለቶች መወገድ አለባቸው. ሂደቱ ሊሸፈኑ በሚችሉ ንጣፎች ላይ ገደቦች ሊኖሩት ይችላል ማለትም የሙቀት ገደቦች ወይም የእንቅስቃሴ ገደቦች። የሲቪዲ ሽፋን ሁሉንም ክሮች, ዓይነ ስውር ቀዳዳዎች እና ውስጣዊ ገጽታዎችን ጨምሮ ሁሉንም የክፍሉ ቦታዎች ይሸፍናል. የተወሰኑ ኢላማ ቦታዎችን የመደበቅ ችሎታን ሊገድብ ይችላል። የፊልም ውፍረት በሂደት እና በቁሳዊ ሁኔታዎች የተገደበ ነው. የላቀ ማጣበቂያ.