የVET ኢነርጂ ምርት መስመር በሲሲ ዋይፋሮች ላይ በጋኤን ብቻ የተገደበ አይደለም። እንዲሁም Si Wafer፣ SiC Substrate፣ SOI Wafer፣ Sin Substrate፣ Epi Wafer፣ወዘተ ጨምሮ ሰፊ ሴሚኮንዳክተር ንኡስ ኮንዳክተር ቁሳቁሶችን እናቀርባለን። Wafer, የወደፊቱን የኃይል ኤሌክትሮኒክስ ኢንዱስትሪ ከፍተኛ አፈፃፀም መሳሪያዎችን ፍላጎት ለማሟላት.
VET ኢነርጂ ተለዋዋጭ የማበጀት አገልግሎቶችን ይሰጣል፣ እና የ GaN epitaxial layers የተለያየ ውፍረት፣ የተለያዩ አይነት ዶፒንግ እና የተለያዩ የዋፈር መጠኖችን እንደ ደንበኛ ልዩ ፍላጎት ማበጀት ይችላል። በተጨማሪም ደንበኞቻችን ከፍተኛ አፈጻጸም ያላቸውን የኤሌክትሮኒክስ መሳሪያዎችን በፍጥነት እንዲያዳብሩ ለማድረግ ሙያዊ የቴክኒክ ድጋፍ እና ከሽያጭ በኋላ አገልግሎት እንሰጣለን።
WAFERING መግለጫዎች
*n-Pm=n-አይነት Pm-Grade፣n-Ps=n-type Ps-Grade፣Sl=ከፊል-ልnsulating
ንጥል | 8-ኢንች | 6-ኢንች | 4-ኢንች | ||
nP | n-Pm | n-መዝ | SI | SI | |
ቲቲቪ(GBIR) | ≤6um | ≤6um | |||
ቀስት(GF3YFCD)-ፍፁም እሴት | ≤15μm | ≤15μm | ≤25μm | ≤15μm | |
ዋርፕ(GF3YFER) | ≤25μm | ≤25μm | ≤40μm | ≤25μm | |
LTV(SBIR)-10ሚሜx10ሚሜ | <2μm | ||||
ዋፈር ጠርዝ | ቤቪሊንግ |
ወለል አጨራረስ
*n-Pm=n-አይነት Pm-Grade፣n-Ps=n-type Ps-Grade፣Sl=ከፊል-ልnsulating
ንጥል | 8-ኢንች | 6-ኢንች | 4-ኢንች | ||
nP | n-Pm | n-መዝ | SI | SI | |
የገጽታ ማጠናቀቅ | ባለ ሁለት ጎን ኦፕቲካል ፖላንድኛ፣ ሲ- ፊት ሲኤምፒ | ||||
የገጽታ ሸካራነት | (10um x 10um) Si-FaceRa≤0.2nm | (5umx5um) Si-Face Ra≤0.2nm | |||
የጠርዝ ቺፕስ | ምንም አይፈቀድም (ርዝመት እና ስፋት≥0.5ሚሜ) | ||||
ገባዎች | ምንም አልተፈቀደም። | ||||
ጭረቶች(Si-Face) | Qty.≤5፣ ድምር | Qty.≤5፣ ድምር | Qty.≤5፣ ድምር | ||
ስንጥቆች | ምንም አልተፈቀደም። | ||||
የጠርዝ ማግለል | 3 ሚሜ |