Silikon Karbid (SiC) epitaksial wafli

Gysga düşündiriş:

VET Energy-den Silikon Karbid (SiC) epitaksial wafli, indiki nesil kuwwatynyň we RF enjamlarynyň talaplaryny kanagatlandyrmak üçin döredilen ýokary öndürijilikli substratdyr. “VET Energy” her bir epitaksial wafli ýokary ýylylyk geçirijiligini, döwülýän naprýa .eniýeni we göterijiniň hereketini üpjün etmek üçin çylşyrymly öndürilmegini üpjün edýär, bu elektrik ulaglary, 5G aragatnaşygy we ýokary öndürijilikli elektronika ýaly programmalar üçin amatly bolýar.


Önümiň jikme-jigi

Haryt bellikleri

VET Energy kremniy karbid (SiC) epitaksial wafli, ýokary temperatura garşylygy, ýokary ýygylygy we ýokary güýç aýratynlyklary bilen ýokary öndürijilikli giň zolakly ýarymgeçiriji materialdyr. Elektrik enjamlarynyň täze nesli üçin ideal substrat. VET Energy, SiC substratlarynda ýokary hilli SiC epitaksial gatlaklaryny ösdürip ýetişdirmek üçin ösen MOCVD epitaksial tehnologiýany ulanýar, wafliň ajaýyp öndürijiligini we yzygiderliligini üpjün edýär.

Silikon Karbid (SiC) Epitaksial Wafer, Si Wafer, SiC Substrate, SOI Wafer we SiN Substrate ýaly dürli ýarymgeçiriji materiallar bilen ajaýyp utgaşyklygy hödürleýär. Ygtybarly epitaksial gatlagy bilen, Epi Waferiň ösüşi we Gallium Oxide Ga2O3 we AlN Wafer ýaly materiallar bilen integrasiýa ýaly ösen prosesleri goldaýar, dürli tehnologiýalarda köptaraply ulanylmagyny üpjün edýär. Senagat standartly kasetany işlemek ulgamlary bilen utgaşykly bolmak üçin döredilen, ýarymgeçiriji ýasama gurşawynda netijeli we tertipli amallary üpjün edýär.

VET Energy-iň önüm çyzgysy diňe SiC epitaksial wafli bilen çäklenmeýär. Şeýle hem, Si Wafer, SiC Substrate, SOI Wafer, SiN Substrate, Epi Wafer we ş.m. ýaly ýarymgeçiriji substrat materiallarynyň giň toplumyny hödürleýäris. Mundan başga-da, Gallium Oxide Ga2O3 we AlN ýaly täze giň zolakly ýarymgeçiriji materiallary işjeň ösdürýäris. Wafer, geljekde elektrik elektronikasynyň ýokary öndürijilikli enjamlara bolan islegini kanagatlandyrmak üçin.

第 6 页 -36
第 6 页 -35

WAFERING aýratynlyklary

* n-Pm = n görnüşli Pm-Grade, n-Ps = n görnüşli Ps-Grade, Sl = -arym lsulýasiýa

Haryt

8-inç

6-inç

4-inç

nP

n-Pm

n-Zeb

SI

SI

TTV (GBIR)

≤6um

≤6um

Aý (GF3YFCD) - Jemi baha

≤15μm

≤15μm

≤25μm

≤15μm

Warp (GF3YFER)

≤25μm

≤25μm

≤40μm

≤25μm

LTV (SBIR) -10mmx10mm

<2μm

Wafer gyrasy

Beveling

SURFACE FINISH

* n-Pm = n görnüşli Pm-Grade, n-Ps = n görnüşli Ps-Grade, Sl = -arym lsulýasiýa

Haryt

8-inç

6-inç

4-inç

nP

n-Pm

n-Zeb

SI

SI

Surface Finish

Iki taraplaýyn optiki polýak, Si-Face CMP

SurfaceRoughness

(10um x 10um) Si-FaceRa≤0.2nm
C-Face Ra≤ 0.5nm

(5umx5um) Si-Face Ra≤0.2nm
C-Face Ra≤0.5nm

Gyrasy çipleri

Hiç birine rugsat berilmedi (uzynlygy we ini≥0.5mm)

Görkezmeler

Hiç birine rugsat berilmedi

Dyrnaklar (Si-Face)

5-nji kwartal
Uzynlygy≤0.5 × wafli diametri

5-nji kwartal
Uzynlygy≤0.5 × wafli diametri

5-nji kwartal
Uzynlygy≤0.5 × wafli diametri

Acksaryklar

Hiç birine rugsat berilmedi

Gyradan çykarmak

3mm

tech_1_2_size
下载 (2)

  • Öňki:
  • Indiki:

  • WhatsApp onlaýn söhbetdeşlik!