Ilki bilen bilmeliPECVD(Plazma güýçlendirilen himiki bug çöketligi). Plazma, material molekulalarynyň ýylylyk hereketiniň güýçlenmegidir. Aralaryndaky çaknyşyk, gaz molekulalarynyň ionlaşmagyna sebäp bolar we material erkin hereket edýän polo positiveitel ionlaryň, elektronlaryň we biri-biri bilen täsir edýän bitarap bölejikleriň garyndysyna öwrüler.
Silikon ýüzündäki ýagtylygyň şöhlelenme ýitgisiniň takmynan 35% -e ýetýändigi çak edilýär. Anti-şöhlelendiriji film, fotogenerirlenen tok dykyzlygyny ýokarlandyrmaga we şeýlelik bilen öwrülişiň netijeliligini ýokarlandyrmaga kömek edýän batareýa öýjügi bilen gün şöhlesiniň ulanylyş tizligini ep-esli gowulaşdyryp biler. Şol bir wagtyň özünde filmdäki wodorod batareýa öýjüginiň üstüni passiwleşdirýär, emitter birikmesiniň üstki rekombinasiýa tizligini peseldýär, garaňky toky peseldýär, açyk zynjyryň naprýa .eniýesini ýokarlandyrýar we fotoelektrik öwrülişiniň netijeliligini ýokarlandyrýar. Burnanmak prosesinde ýokary temperatura dessine garyşmak käbir Si-H we NH baglanyşyklaryny döwýär we boşadylan H batareýanyň passiwligini hasam güýçlendirýär.
Fotowoltaik derejeli kremniý materiallary hökmany suratda köp mukdarda hapalary we kemçilikleri öz içine alýandygy sebäpli, azlyk göterijiniň ömri we kremniniň diffuziýa uzynlygy azalýar, netijede batareýanyň öwrüliş netijeliligi peselýär. H kremniýdäki kemçilikler ýa-da hapalar bilen reaksiýa berip biler, şeýlelik bilen zolakdaky energiýa zolagyny walent zolagyna ýa-da geçiriji zolaga geçirip biler.
1. PECVD ýörelgesi
PECVD ulgamy ulanýan generatorlaryň bir toparydyrPECVD grafit gaýygy we ýokary ýygylykly plazma tolgundyryjylary. Plazma generatory pes basyşda we ýokary temperaturada reaksiýa bermek üçin göni örtük plastinkasynyň ortasyna oturdylýar. Ulanylýan işjeň gazlar silan SiH4 we ammiak NH3. Bu gazlar, kremniniň waflinde saklanýan kremniniň nitridinde hereket edýär. Silanyň ammiak bilen gatnaşygyny üýtgetmek arkaly dürli refraktiw görkezijileri alyp bolýar. Çökdürmek prosesinde köp mukdarda wodorod atomlary we wodorod ionlary emele gelýär, bu bolsa wafliň wodorod passiwasiýasyny gaty gowy edýär. Wakuumda we 480 gradus Selsiýada daşky gurşaw temperaturasynda, kremniý wafliniň üstünde SixNy gatlagy örtülendirPECVD grafit gaýygy.
3SiH4 + 4NH3 → Si3N4 + 12H2
2. Si3N4
Si3N4 filminiň reňki galyňlygy bilen üýtgeýär. Umuman, ideal galyňlygy goýy gök ýaly görünýän 75 bilen 80 nm aralygyndadyr. Si3N4 filminiň refraktiw görkezijisi 2.0 bilen 2,5 arasynda iň gowusydyr. Alkogol, adatça, refraktiw görkezijisini ölçemek üçin ulanylýar.
Ajaýyp ýerüsti passiwasiýa effekti, täsirli optiki anti-şöhlelendirme öndürijiligi (galyňlygyň refraktiw görkezijisi deňeşdirilmegi), pes temperatura prosesi (çykdajylary netijeli azaltmak) we döredilen H ionlary kremniniň wafli ýüzüni passiwleşdirýär.
3. Örtük ussahanasynda umumy meseleler
Filmiň galyňlygy:
Depozit wagty dürli film galyňlygy üçin tapawutlanýar. Çökdürme wagty, örtügiň reňkine görä degişli derejede köpeldilmeli ýa-da azaldylmaly. Film ak bolsa, depozit wagtyny gysgaltmaly. Gyzyl bolsa, ýerlikli köpeltmeli. Filmleriň her bir gämisi doly tassyklanmaly we kemçilikli önümleriň indiki işe geçmegine ýol berilmeýär. Mysal üçin, örtük pes bolsa, reňk tegmilleri we suw bellikleri ýaly, önümçilik liniýasyndaky iň köp ýaýran ýerüsti akartma, reňk tapawudy we ak tegmiller wagtynda saýlanmalydyr. Surfaceerüsti akartmak, esasan, filmiň goýulma wagtyny sazlamak arkaly sazlanyp bilinýän galyň kremniy nitrit filmi bilen ýüze çykýar; reňk tapawudy filmi esasan gaz ýolunyň petiklenmegi, kwars turbasynyň syzmagy, mikrotolkun şowsuzlygy we ş.m. sebäpli ýüze çykýar; ak tegmiller esasan öňki işde ownuk gara tegmiller sebäpli ýüze çykýar. Yzygiderlilige gözegçilik, refraktiw görkeziji we ş.m., ýörite gazlaryň howpsuzlygy we ş.m.
Surfaceer ýüzündäki ak tegmiller:
PECVD gün öýjüklerinde has möhüm proses we kompaniýanyň gün öýjükleriniň netijeliliginiň möhüm görkezijisidir. PECVD prosesi köplenç meşgul, öýjükleriň her bir toparyna gözegçilik edilmeli. Örtükli peç turbalary köp we her turbada adatça ýüzlerçe öýjük bar (enjamlara baglylykda). Amal parametrlerini üýtgedensoň, barlamak sikli uzyn. Örtük tehnologiýasy, tutuş fotoelektrik pudagynyň uly ähmiýete eýe bolan tehnologiýasydyr. Gün öýjükleriniň netijeliligini örtük tehnologiýasyny gowulandyrmak arkaly ýokarlandyryp bolar. Geljekde gün öýjükleriniň üstki tehnologiýasy gün öýjükleriniň nazary netijeliliginde öňegidişlige öwrülip biler.
Iş wagty: 23-2024-nji dekabry