Habarlar

  • Näme üçin gury eriş wagtynda gyralar egilýär?

    Näme üçin gury eriş wagtynda gyralar egilýär?

    Ion bombalanmagynyň birmeňzeş bolmazlygy Gury dökülme, adatça fiziki we himiki täsirleri birleşdirýän prosesdir, onda ion bombalanmagy möhüm fiziki usuldyr. Dökmek prosesinde hadysanyň burçy we ionlaryň energiýa paýlanyşy deň däl bolup biler. Ion çişýän bolsa ...
    Dowamyny oka
  • Üç sany umumy CVD tehnologiýasy bilen tanyşlyk

    Üç sany umumy CVD tehnologiýasy bilen tanyşlyk

    Himiki bug çöketligi (CVD) ýarymgeçiriji pudagynda dürli izolýasiýa materiallaryny, köp metal materiallary we metal garyndy materiallaryny öz içine alýan dürli materiallary goýmak üçin iň köp ulanylýan tehnologiýa. CVD adaty inçe film taýýarlamak tehnologiýasydyr. Onuň prinsipi ...
    Dowamyny oka
  • Almaz beýleki ýokary güýçli ýarymgeçiriji enjamlary çalşyp bilermi?

    Almaz beýleki ýokary güýçli ýarymgeçiriji enjamlary çalşyp bilermi?

    Döwrebap elektron enjamlarynyň özeni hökmünde ýarymgeçiriji materiallar görlüp-eşidilmedik üýtgeşmeleri başdan geçirýär. Häzirki wagtda göwher, ajaýyp elektrik we ýylylyk aýratynlyklary we aşa ýokary şertlerde durnuklylygy bilen dördünji nesil ýarymgeçiriji material hökmünde ägirt uly mümkinçiliklerini kem-kemden görkezýär ...
    Dowamyny oka
  • CMP-ni meýilleşdirmek mehanizmi näme?

    CMP-ni meýilleşdirmek mehanizmi näme?

    “Dual-Damascene” integral zynjyrlarda metal özara baglanyşyklary öndürmek üçin ulanylýan proses tehnologiýasydyr. Bu Damask etabynyň mundan beýläkki ösüşidir. Deşikleriň we deşikleriň şol bir wagtyň özünde şol bir ädimde emele gelip, olary metal bilen doldurmak bilen, toplumlaýyn önümçilik ...
    Dowamyny oka
  • TaC örtükli grafit

    TaC örtükli grafit

    I. Amal parametrlerini gözlemek 1. TaCl5-C3H6-H2-Ar ulgamy 2. Depolýasiýa temperaturasy: Termodinamiki formula görä, temperatura 1273K-dan ýokary bolanda, Gibbsiň erkin reaksiýasy gaty pes we reaksiýa birneme doly. Rea ...
    Dowamyny oka
  • Silikon karbid kristal ösüş prosesi we enjam tehnologiýasy

    Silikon karbid kristal ösüş prosesi we enjam tehnologiýasy

    1. SiC kristal ösüş tehnologiýasy ugry PVT (sublimasiýa usuly), HTCVD (ýokary temperatura CVD), LPE (suwuk faza usuly) üç sany umumy SiC kristal ösüş usulydyr; Senagatda iň ykrar edilen usul PVT usulydyr we SiC ýeke kristallarynyň 95% -den gowragy PVT tarapyndan ösdürilýär ...
    Dowamyny oka
  • Gözenekli kremniy uglerod kompozit materiallaryny taýýarlamak we öndürijiligi gowulandyrmak

    Gözenekli kremniy uglerod kompozit materiallaryny taýýarlamak we öndürijiligi gowulandyrmak

    Lityum-ion batareýalary esasan ýokary energiýa dykyzlygy ugrunda ösýär. Otag otagynyň temperaturasynda, belli bir kuwwaty 3572 mAh / g çenli bolan, teoriýadan has ýokary bolan litiý baý önüm Li3.75Si fazasyny öndürmek üçin litiý bilen kremniý esasly negatiw elektrod materiallary garyndysy ...
    Dowamyny oka
  • Cryeke kristal kremniniň ýylylyk okislenmesi

    Cryeke kristal kremniniň ýylylyk okislenmesi

    Silikonyň üstünde kremniniň dioksidiniň emele gelmegine okislenme diýilýär we durnukly we berk ýapyşýan kremniniň dioksidiniň döredilmegi kremniniň integral zynjyr meýilnama tehnologiýasynyň döremegine sebäp boldy. Silikonyň üstünde göni kremniniň dioksidini ösdürmegiň köp usuly bar ...
    Dowamyny oka
  • “Fan-Out Wafer-Level Packaging” üçin UV gaýtadan işlemek

    “Fan-Out Wafer-Level Packaging” üçin UV gaýtadan işlemek

    Fan out wafer derejeli gaplama (FOWLP) ýarymgeçiriji pudagynda tygşytly usul. Thisöne bu prosesiň adaty ýaramaz täsirleri çişirilýär we çip offset bolýar. Wafer derejesiniň we panel derejesindäki janköýerleriň tehnologiýasynyň yzygiderli gowulaşmagyna garamazdan, galyp bilen baglanyşykly bu meseleler henizem ...
    Dowamyny oka
WhatsApp onlaýn söhbetdeşlik!