CVD-SiCpalapis boga ciri struktur seragam, bahan kompak, résistansi suhu luhur, résistansi oksidasi, purity tinggi, résistansi asam & alkali jeung réagen organik, mibanda sipat fisik jeung kimia stabil.

Dibandingkeun jeung bahan grafit-purity tinggi, grafit mimiti ngoksidasi dina 400C, nu bakal ngabalukarkeun leungitna bubuk alatan oksidasi, hasilna polusi lingkungan alat periferal jeung chambers vakum, sarta ngaronjatkeun pangotor lingkungan-purity tinggi.

Sanajan kitu, palapis SiC bisa ngajaga stabilitas fisik jeung kimia dina 1600 derajat, Hal ieu loba dipaké dina industri modern, utamana dina industri semikonduktor.

Pausahaan kami nyayogikeun jasa prosés palapis SiC ku metode CVD dina permukaan grafit, keramik sareng bahan sanésna, ku kituna gas khusus anu ngandung karbon sareng silikon diréaksikeun dina suhu anu luhur pikeun kéngingkeun molekul SiC anu murni, molekul disimpen dina permukaan bahan anu dilapis, ngabentuk lapisan pelindung SIC. The SIC kabentuk ieu pageuh kabeungkeut kana basa grafit, mere grafit basa sipat husus, sahingga nyieun beungeut grafit kompak, Porosity bébas, résistansi suhu luhur, résistansi korosi jeung résistansi oksidasi.

Fitur utama:

1. Résistansi oksidasi suhu luhur:

résistansi oksidasi masih pohara alus lamun suhu saluhur 1600 C.

2. Purity High: dijieun ku déposisi uap kimia dina kaayaan chlorination suhu luhur.

3. lalawanan erosi: karasa tinggi, beungeut kompak, partikel rupa.

4. lalawanan korosi: asam, alkali, uyah jeung réagen organik.

Spésifikasi utama Coatings CVD-SIC: