Епитакиал Епи Грапхите Баррел Сусцептор

Епитакиал Епи Грапхите Баррел Сусцептор

Епитакиал Епи Грапхите Баррел Сусцепторје специјално дизајниран уређај за подршку и грејање који се користи за држање и загревање полупроводничких супстрата током производних процеса као што су процеси депозиције или епитаксије.

Његова структура обухвата типично цилиндричну или благо бачвасту, површину са више џепова или платформи за постављање облатни, може бити пуна или шупља, у зависности од начина загревања.

Главне функције епитаксијалног бачвастог сусцептора:

-Подлога за подлогу: безбедно држи више полупроводничких плочица;
-Извор топлоте: обезбеђује високе температуре потребне за раст кроз загревање;
-Уједначеност температуре: обезбеђује равномерно загревање подлоге;
-Ротација: обично се ротира током раста како би се побољшала температура и уједначеност дистрибуције гаса.

Принцип рада Епи графитног бурета:
- У епитаксијалном реактору, бачвасти пријемник се загрева на потребну температуру (обично 1000℃-1200℃ за силицијумску епитаксију);
-Прихват бачве се ротира како би се обезбедила уједначена расподела температуре и проток гаса;
-Реакциони гасови се разлажу на високим температурама, формирајући епитаксијалне слојеве на површини супстрата.

Пријаве:
-Примарно се користи за епитаксијални раст силицијума
-Такође применљиво за епитаксију других полупроводничких материјала као што су ГаАс, ИнП, итд.

ВЕТ Енерги користи графит високе чистоће са ЦВД-СиЦ премазом за побољшање хемијске стабилности:

Предности ВЕТ Енерги Епитакиал Епи Грапхите Баррел Сусцептор:

- Висока температурна стабилност;
-Добра термичка униформност;
-Може да обрађује више супстрата истовремено, побољшавајући ефикасност производње;
- Хемијски инертан, одржава окружење за раст високе чистоће.