Držalo za rezine grafitnega substrata za PECVD

Kratek opis:

Držalo za grafitni substrat podjetja VET Energy je zasnovano tako, da ohranja poravnavo rezin in stabilnost med postopkom PECVD, s čimer preprečuje kontaminacijo in zmanjšuje tveganje poškodb. Graphite Wafer Holder zagotavlja varno, enakomerno platformo, ki zagotavlja, da so rezine enakomerno izpostavljene plazmi za dosledno in visokokakovostno nanašanje. S svojo visoko toplotno prevodnostjo in izjemno trdnostjo to držalo pomaga izboljšati splošno učinkovitost procesa in zmogljivost izdelka.

Pošljite nam e-pošto Prenesi kot PDF

Podrobnosti o izdelku

Oznake izdelkov

VET Energy Graphite Substrate Wafer Holder je natančen nosilec, zasnovan za postopek PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition). To visokokakovostno grafitno držalo za substrat je izdelano iz grafitnega materiala visoke čistosti z visoko gostoto, z odlično odpornostjo na visoke temperature, odpornostjo proti koroziji, dimenzijsko stabilnostjo in drugimi lastnostmi. Zagotovi lahko stabilno podporno platformo za proces PECVD in zagotovi enakomernost in ravnost nanašanja filma.

Podporna miza za grafitne rezine VET Energy PECVD ima naslednje značilnosti:

▪Visoka čistost:izjemno nizka vsebnost nečistoč, izogibajte se kontaminaciji filma, zagotovite kakovost filma.

▪Visoka gostota:visoka gostota, visoka mehanska trdnost, lahko prenese visoko temperaturo in visokotlačno okolje PECVD.

▪Dobra dimenzijska stabilnost:majhna dimenzijska sprememba pri visoki temperaturi, kar zagotavlja stabilnost procesa.

▪Odlična toplotna prevodnost:učinkovito prenašajo toploto, da preprečijo pregrevanje rezin.

▪Močna odpornost proti koroziji:se lahko upre eroziji zaradi različnih jedkih plinov in plazme.

▪Storitev po meri:grafitne podporne mize različnih velikosti in oblik je mogoče prilagoditi glede na potrebe strank.

Prednosti izdelka

▪Izboljšajte kakovost filma:Zagotovite enakomerno nanašanje filma in izboljšajte kakovost filma.

▪Podaljšajte življenjsko dobo opreme:Odlična odpornost proti koroziji, podaljša življenjsko dobo opreme PECVD.

▪Zmanjšajte proizvodne stroške:Visokokakovostni grafitni pladnji lahko zmanjšajo stopnjo odpadkov in proizvodne stroške.

Grafitni material iz SGL:

Tipični parameter: R6510
Kazalo	Testni standard	Vrednost	Enota
Povprečna velikost zrn	ISO 13320	10	μm
Nasipna gostota	DIN IEC 60413/204	1.83	g/cm³
Odprta poroznost	DIN66133	10	%
Srednje velike pore	DIN66133	1.8	μm
Prepustnost	DIN 51935	0,06	cm²/s
Trdota po Rockwellu HR5/100	DIN IEC60413/303	90	HR
Specifična električna upornost	DIN IEC 60413/402	13	μΩm
Upogibna trdnost	DIN IEC 60413/501	60	MPa
Tlačna trdnost	DIN 51910	130	MPa
Youngov modul	DIN 51915	11,5×10³	MPa
Toplotna ekspanzija (20-200 ℃)	DIN 51909	4,2X10^-6	K^-1
Toplotna prevodnost (20 ℃)	DIN 51908	105	Wm^-1K^-1

Zasnovan je posebej za visoko učinkovito proizvodnjo sončnih celic, ki podpira obdelavo rezin velike velikosti G12. Optimizirana zasnova nosilca znatno poveča pretok, kar omogoča višje stopnje izkoristka in nižje proizvodne stroške.

Postavka	Vrsta	Nosilec rezin številke
PEVCD Grephite čoln - serija 156	156-13 grefitni čoln	144
	156-19 grefitni čoln	216
	156-21 grefitni čoln	240
	156-23 grafitni čoln	308
PEVCD Grephite čoln - serija 125	125-15 grefitni čoln	196
	125-19 grefitni čoln	252
	125-21 grfitni čoln	280