„Úprimnosť, inovácia, prísnosť a efektívnosť“ je trvalou koncepciou našej spoločnosti, ktorá sa dlhodobo rozvíja spolu so zákazníkmi pre vzájomnú reciprocitu a vzájomný prospech pre inšpekciu kvality pre čínske priemyselné polykryštalickéDiamantový prášok3-6um pre Sapphire Wafer, Sme si istí, že dokážeme ponúknuť zákazníkom vysokokvalitné produkty a riešenia za rozumnú cenu a vynikajúcu popredajnú podporu. A vybudujeme živú dlhú trať.
„Úprimnosť, inovácia, prísnosť a efektívnosť“ je trvalou koncepciou našej spoločnosti, ktorá sa má dlhodobo rozvíjať spolu so zákazníkmi pre vzájomnú reciprocitu a vzájomný prospech preČínsky syntetický diamant, Diamantový prášokVždy trváme na princípe manažmentu „Kvalita je na prvom mieste, technológia je základ, čestnosť a inovácia“. Sme schopní neustále vyvíjať nové produkty na vyššiu úroveň, aby sme uspokojili rôzne potreby zákazníkov.
Popis produktu
Naša spoločnosť poskytuje služby procesu poťahovania SiC metódou CVD na povrchu grafitu, keramiky a iných materiálov tak, že špeciálne plyny obsahujúce uhlík a kremík reagujú pri vysokej teplote za vzniku vysoko čistých molekúl SiC, molekúl usadených na povrchu poťahovaných materiálov, vytvára ochrannú vrstvu SIC.
Hlavné vlastnosti:
1. Odolnosť proti oxidácii pri vysokej teplote:
odolnosť proti oxidácii je stále veľmi dobrá, keď je teplota až 1600 C.
2. Vysoká čistota: vyrobená chemickou depozíciou pár pri vysokej teplote chlorácie.
3. Odolnosť proti erózii: vysoká tvrdosť, kompaktný povrch, jemné častice.
4. Odolnosť proti korózii: kyselinám, zásadám, soliam a organickým činidlám.
Hlavné špecifikácie povlaku CVD-SIC
Vlastnosti SiC-CVD | ||
Kryštálová štruktúra | FCC β fáza | |
Hustota | g/cm³ | 3.21 |
Tvrdosť | Tvrdosť podľa Vickersa | 2500 |
Veľkosť zrna | μm | 2~10 |
Chemická čistota | % | 99,99995 |
Tepelná kapacita | J·kg-1 ·K-1 | 640 |
Teplota sublimácie | ℃ | 2700 |
Felexurálna sila | MPa (RT 4-bodové) | 415 |
Youngov modul | Gpa (4pt ohyb, 1300 ℃) | 430 |
Tepelná expanzia (CTE) | 10-6K-1 | 4.5 |
Tepelná vodivosť | (W/mK) | 300 |