8-palcový silikónový plátok vysokej čistoty

8 palcový kremíkový plátok s vysokou čistotou Odporúčaný obrázok

Krátky popis:

Vysoko čisté 8-palcové kremíkové doštičky VET Energy sú vašou ideálnou voľbou pre výrobu polovodičov. Tieto doštičky vyrobené pomocou pokročilej technológie majú vynikajúcu kvalitu kryštálov a rovinnosť povrchu, vďaka čomu sú vhodné na výrobu rôznych mikroelektronických zariadení.

Pošlite nám e-mail Stiahnuť ako PDF

Detail produktu

Štítky produktu

8-palcové kremíkové doštičky VET Energy sú široko používané vo výkonovej elektronike, senzoroch, integrovaných obvodoch a iných oblastiach. Ako líder v polovodičovom priemysle sme odhodlaní poskytovať vysokokvalitné produkty Si Wafer, aby sme uspokojili rastúce potreby našich zákazníkov.

Okrem Si Wafer, VET Energy tiež poskytuje širokú škálu polovodičových substrátových materiálov, vrátane SiC Substrate, SOI Wafer, SiN Substrate, Epi Wafer atď. Naša produktová rada pokrýva aj nové polovodičové materiály so širokým pásmovým odstupom, ako je oxid gália Ga2O3 a AlN Wafer, ktorý poskytuje silnú podporu pre vývoj výkonových elektronických zariadení novej generácie.

VET Energy má moderné výrobné vybavenie a kompletný systém riadenia kvality, aby sa zabezpečilo, že každý plátok spĺňa prísne priemyselné normy. Naše výrobky majú nielen vynikajúce elektrické vlastnosti, ale aj dobrú mechanickú pevnosť a tepelnú stabilitu.

VET Energy poskytuje zákazníkom prispôsobené riešenia plátkov vrátane plátkov rôznych veľkostí, typov a koncentrácií dopingu. Okrem toho poskytujeme aj profesionálnu technickú podporu a popredajný servis, aby sme zákazníkom pomohli vyriešiť rôzne problémy, ktoré sa vyskytli počas výrobného procesu.

ŠPECIFIKÁCIE WAFEROV

*n-Pm=n-typ Pm-stupeň,n-Ps=n-typ Ps-stupeň,Sl=poloizolačný

Položka	8-palcový	6-palcový			4-palcový
Položka	nP	n-Pm	n-Ps	SI	SI
TTV (GBIR)	≤ 6 um	≤ 6 um
Bow (GF3YFCD) - Absolútna hodnota	≤ 15 μm	≤ 15 μm	≤ 25 μm		≤ 15 μm
Warp (GF3YFER)	≤ 25 μm	≤ 25 μm	≤ 40 μm		≤ 25 μm
LTV (SBIR) - 10 mm x 10 mm	<2 μm
Oblátkový okraj	Skosenie

POVRCHOVÁ ÚPRAVA

*n-Pm=n-typ Pm-stupeň,n-Ps=n-typ Ps-stupeň,Sl=poloizolačný

Položka	8-palcový	6-palcový			4-palcový
	nP	n-Pm	n-Ps	SI	SI
Povrchová úprava	Obojstranný optický lesk, Si-Face CMP
Drsnosť povrchu	(10 um x 10 um) Si-FaceRa ≤ 0,2 nm C-Face Ra ≤ 0,5 nm			(5 um x 5 um) Si-Face Ra ≤ 0,2 nm C-Face Ra ≤ 0,5 nm
Hranové čipy	Nie je povolené (dĺžka a šírka ≥ 0,5 mm)
Zarážky	Žiadne Povolené
Škrabance (Si-Face)	Množ.≤5, Kumulatívne Dĺžka ≤ 0,5 × priemer plátku	Množ.≤5, Kumulatívne Dĺžka ≤ 0,5 × priemer plátku			Množ.≤5, Kumulatívne Dĺžka ≤ 0,5 × priemer plátku
Trhliny	Žiadne Povolené
Vylúčenie okrajov	3 mm