Эпитаксия GaN на основе кремния

Описание продукта

Наша компания предоставляет услуги по нанесению покрытия SiC методом CVD на поверхность графита, керамики и других материалов, так что специальные газы, содержащие углерод и кремний, реагируют при высокой температуре с получением молекул SiC высокой чистоты, молекул, осаждаемых на поверхности материалов с покрытием, образуя защитный слой SIC.

Основные особенности:

1. Устойчивость к высокотемпературному окислению:

стойкость к окислению остается очень хорошей при температуре до 1600 C.

2. Высокая чистота: производится методом химического осаждения из паровой фазы в условиях высокотемпературного хлорирования.

3. Устойчивость к эрозии: высокая твердость, компактная поверхность, мелкие частицы.

4. Коррозионная стойкость: кислоты, щелочи, соли и органические реагенты.

Основные характеристики покрытия CVD-SIC