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Fontes de poluição e prevenção na indústria de fabricação de semicondutores
por administrador em 24/08/13
A produção de dispositivos semicondutores inclui principalmente dispositivos discretos, circuitos integrados e seus processos de embalagem. A produção de semicondutores pode ser dividida em três etapas: produção do material do corpo do produto, fabricação do wafer do produto e montagem do dispositivo. Entre eles,...
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Por que precisa de desbaste?
por administrador em 24-08-08
Na fase de processo de back-end, o wafer (wafer de silício com circuitos na frente) precisa ser afinado na parte traseira antes do subsequente corte em cubos, soldagem e embalagem para reduzir a altura de montagem do pacote, reduzir o volume do pacote de chips, melhorar a temperatura térmica do chip difusão...
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Processo de síntese de pó de cristal único SiC de alta pureza
por administrador em 24-08-08
No processo de crescimento de cristal único de carboneto de silício, o transporte físico de vapor é o atual método de industrialização convencional. Para o método de crescimento PVT, o pó de carboneto de silício tem grande influência no processo de crescimento. Todos os parâmetros do pó de carboneto de silício dire...
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Por que uma caixa de wafer contém 25 wafers?
pelo administrador em 24/07/30
No mundo sofisticado da tecnologia moderna, os wafers, também conhecidos como wafers de silício, são os principais componentes da indústria de semicondutores. Eles são a base para a fabricação de diversos componentes eletrônicos como microprocessadores, memórias, sensores, etc., e cada wafer...
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Pedestais comumente usados para epitaxia em fase de vapor
pelo administrador em 24/07/30
Durante o processo de epitaxia em fase de vapor (VPE), a função do pedestal é apoiar o substrato e garantir aquecimento uniforme durante o processo de crescimento. Diferentes tipos de pedestais são adequados para diferentes condições de crescimento e sistemas de materiais. A seguir estão alguns...
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Como prolongar a vida útil dos produtos revestidos com carboneto de tântalo?
por administrador em 24/07/26
Os produtos revestidos de carboneto de tântalo são um material comumente usado para altas temperaturas, caracterizado por resistência a altas temperaturas, resistência à corrosão, resistência ao desgaste, etc. Portanto, eles são amplamente utilizados em indústrias como aeroespacial, química e energia. Para ex...
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Qual é a diferença entre PECVD e LPCVD em equipamentos CVD semicondutores?
por administrador em 24/07/24
A deposição química de vapor (CVD) refere-se ao processo de deposição de um filme sólido na superfície de uma pastilha de silício por meio de uma reação química de uma mistura gasosa. De acordo com as diferentes condições de reação (pressão, precursor), pode ser dividido em diversos equipamentos...
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Características do molde de grafite de carboneto de silício
por administrador em 24/07/18
Molde de grafite de carboneto de silício O molde de grafite de carboneto de silício é um molde composto com carboneto de silício (SiC) como base e grafite como material de reforço. Este molde possui excelente condutividade térmica, resistência a altas temperaturas, resistência à corrosão e...
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Processo semicondutor processo completo de fotolitografia
por administrador em 24/07/16
A fabricação de cada produto semicondutor requer centenas de processos. Dividimos todo o processo de fabricação em oito etapas: processamento de wafer-oxidação-fotolitografia-gravação-deposição de filme fino-crescimento epitaxial-difusão-implantação de íons. Para ajudar você...
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