Kisi SiC/Sustrat tal-Grafit Miksi/Trej għal Semikondutturi

Kisi SiC/Sustrat tal-Grafit Miksi/Trej għal Immaġni Dehru Semikondutturi

Deskrizzjoni qasira:

VET Energy SiC Coated Graphite Susceptor għat-Tkabbir Epitassjali huwa prodott ta 'prestazzjoni għolja ddisinjat biex jipprovdi prestazzjoni konsistenti u affidabbli fuq perjodu estiż. Għandha reżistenza tas-sħana super tajba u uniformità termali, purità għolja, reżistenza għall-erożjoni, li tagħmilha s-soluzzjoni perfetta għall-applikazzjonijiet tal-ipproċessar tal-wejfer.

Ibgħat email lilna Niżżel bħala PDF

Dettall tal-Prodott

Tags tal-Prodott

Kisi SiC/kisi ta 'Susceptor tal-Graphite għal Semikondutturi

Il-Sottostrat tal-Grafit Miksi SiChija soluzzjoni durabbli ħafna u effiċjenti ddisinjata biex tissodisfa t-talbiet rigorużi tal-industrija tal-ipproċessar tas-semikondutturi. Jidhru saff ta 'purità għoljakisi tal-karbur tas-silikon (SiC)., dan is-sottostrat jagħti stabbiltà termali eċċezzjonali, reżistenza għall-ossidazzjoni, u ħajja ta 'servizz fit-tul, li jagħmilha ideali għal applikazzjonijiet fi proċessi MOCVD, trasportaturi tal-wejfer tal-grafita, u ambjenti oħra ta' temperatura għolja.

Karatteristiċi:
· Reżistenza għall-Xokk Termali Eċċellenti
· Reżistenza Eċċellenti għall-Xokk Fiżiku
· Reżistenza Kimika Eċċellenti
· Purità Super Għolja
· Disponibbiltà f'Forma Kumpless
·Użabbli taħt Atmosfera Ossidanti

Applikazzjoni:

Karatteristiċi u Vantaġġi tal-Prodott:

1. Reżistenza Termali Superjuri:B'purità għoljaKisi SiC, Is-sottostrat jiflaħ temperaturi estremi, u jiżgura prestazzjoni konsistenti f'ambjenti eżiġenti bħall-fabbrikazzjoni tal-epitassija u tas-semikondutturi.

2. Durabilità Mtejba:Il-komponenti tal-grafita miksija SiC huma ddisinjati biex jirreżistu l-korrużjoni u l-ossidazzjoni kimika, u jżidu l-ħajja tas-sottostrat meta mqabbla ma 'sottostrati standard tal-grafita.

3. Grafita Miksija Vitreous:L-istruttura vitriża unika tal-Kisi SiCjipprovdi ebusija tal-wiċċ eċċellenti, jimminimizza l-użu u l-kedd waqt l-ipproċessar f'temperatura għolja.

4. Kisi SiC ta 'purità għolja:Is-sottostrat tagħna jiżgura kontaminazzjoni minima fi proċessi sensittivi tas-semikondutturi, li joffri affidabbiltà għall-industriji li jeħtieġu purità stretti tal-materjal.

5. Applikazzjoni tas-Suq Wiesgħa:Il-Susceptor tal-grafita miksi b'SiCsuq ikompli jikber hekk kif id-domanda għal prodotti avvanzati miksija b'SiC fil-manifattura tas-semikondutturi tiżdied, u jqiegħed dan is-sottostrat bħala attur ewlieni kemm fis-suq tal-ġarr tal-wejfer tal-grafita kif ukoll fis-suq tat-trejs tal-grafita miksija bil-karbur tas-silikon.

Proprjetajiet Tipiċi tal-Materjal Bażi tal-Grafit:

Densità apparenti:	1.85 g/ċm3
Reżistività Elettrika:	11 μΩm
Qawwa tal-flessjoni:	49 MPa (500kgf/cm2)
Ebusija tax-Xatt:	58
Irmied:	<5ppm
Konduttività Termali:	116 W/mK (100 kcal/mhr-℃)

CVD SiC薄膜基本物理性能 Proprjetajiet fiżiċi bażiċi ta 'CVD SiCkisi
性质 / Proprjetà	典型数值 / Valur Tipiku
晶体结构 / Struttura tal-kristall	FCC β phase 多晶，主要为（111）取向
密度 / Densità	3.21 g/ċm³
硬度 / Ebusija	2500 维氏硬度（tagħbija ta' 500g）
晶粒大小 / Daqs tal-qamħ	2 ~ 10μm
纯度 / Purità Kimika	99.99995%
热容 / Kapaċità tas-Sħana	640 J·kg^-1·K^-1
升华温度 / Temperatura tas-sublimazzjoni	2700℃
抗弯强度 / Qawwa tal-Flessjoni	415 MPa RT 4-punti
杨氏模量 / Modulus taż-Żgħażagħ	430 Gpa 4pt liwja, 1300℃
导热系数 / Konduttività Termali	300W·m^-1·K^-1
热膨胀系数 / Espansjoni Termali (CTE)	4.5×10^-6K^-1

VET Energy huwa l-manifattur reali ta 'grafit personalizzat u prodotti tal-karbur tas-silikon b'kisjiet differenti bħal kisi SiC, kisi TaC, kisi tal-karbonju tal-ħġieġ, kisi tal-karbonju pirolitiku, eċċ., Jista' jforni diversi partijiet personalizzati għall-industrija tas-semikondutturi u fotovoltajka.

It-tim tekniku tagħna ġej mill-aqwa istituzzjonijiet ta 'riċerka domestiċi, jista' jipprovdi soluzzjonijiet materjali aktar professjonali għalik.

Aħna kontinwament niżviluppaw proċessi avvanzati biex nipprovdu materjali aktar avvanzati, u ħdimna teknoloġija esklussiva bi privattiva, li tista 'tagħmel it-twaħħil bejn il-kisi u s-sottostrat aktar strett u inqas suxxettibbli għal distakk.

Bi pjaċir iżżur il-fabbrika tagħna, ejja jkollna aktar diskussjoni!