Kisi SiC miksi minnSubstrat tal-grafita għal Semikondutturi, Kisi tal-karbur tas-silikonju,Susceptor MOCVD,
Sostrat tal-grafita, Substrat tal-grafita għal Semikondutturi, Susceptor MOCVD, Kisi tal-Karbur tas-Silikon,
Vantaġġi speċjali tas-susceptors tal-grafita miksija bis-SiC tagħna jinkludu purità estremament għolja, kisi omoġenju u ħajja ta 'servizz eċċellenti. Għandhom ukoll reżistenza kimika għolja u proprjetajiet ta 'stabbiltà termali.
Kisi tas-SiC taSubstrat tal-grafita għal Semikondutturiapplikazzjonijiet jipproduċi parti b'purità superjuri u reżistenza għall-atmosfera ossidanti.
CVD SiC jew CVI SiC huwa applikat għal Graphite ta 'partijiet ta' disinn sempliċi jew kumplessi. Il-kisi jista 'jiġi applikat fi ħxuna differenti u għal partijiet kbar ħafna.
Karatteristiċi:
· Reżistenza għall-Xokk Termali Eċċellenti
· Reżistenza Eċċellenti għall-Xokk Fiżiku
· Reżistenza Kimika Eċċellenti
· Purità Super Għolja
· Disponibbiltà f'Forma Kumpless
· Jintuża taħt Atmosfera Ossidanti
Proprjetajiet Tipiċi tal-Materjal Bażi tal-Grafit:
Densità apparenti: | 1.85 g/ċm3 |
Reżistività Elettrika: | 11 μΩm |
Qawwa tal-flessjoni: | 49 MPa (500kgf/cm2) |
Ebusija tax-Xatt: | 58 |
Irmied: | <5ppm |
Konduttività Termali: | 116 W/mK (100 kcal/mhr-℃) |
Il-karbonju jipprovdi susceptors u komponenti tal-grafita għar-reatturi kollha attwali tal-epitassija. Il-portafoll tagħna jinkludi susceptors tal-kanna għal unitajiet applikati u LPE, susceptors pancake għal unitajiet LPE, CSD, u Gemini, u susceptors single-wejfer għal unitajiet applikati u ASM. Billi tgħaqqad sħubijiet b'saħħithom ma 'OEMs ewlenin, għarfien espert tal-materjali u għarfien tal-manifattura, SGL joffri l-aħjar disinn għall-applikazzjoni tiegħek.
Aktar Prodotti