Selalunya berorientasikan pelanggan, dan ia adalah sasaran utama kami untuk menjadi bukan sahaja penyedia yang paling bereputasi, boleh dipercayai dan jujur, tetapi juga rakan kongsi untuk pelanggan kami untuk Pemendapan Wap Kimia Dipertingkatkan China 1200c Harga Super Terendah PlasmaPecvdFunace Vakum, Untuk mengetahui lebih lanjut tentang perkara yang boleh kami lakukan untuk anda, hubungi kami pada bila-bila masa. Kami berharap dapat mewujudkan hubungan perniagaan yang baik dan jangka panjang dengan anda.
Selalunya berorientasikan pelanggan, dan ia adalah sasaran utama kami untuk menjadi bukan sahaja penyedia yang paling bereputasi, boleh dipercayai dan jujur, tetapi juga rakan kongsi untuk pelanggan kami untukPemendapan Wap Kimia Dipertingkat Plasma China, Pecvd, Peralatan canggih kami, pengurusan kualiti yang sangat baik, keupayaan penyelidikan dan pembangunan menjadikan harga kami turun. Harga yang kami tawarkan mungkin bukan yang terendah, tetapi kami menjamin ia benar-benar kompetitif! Selamat datang untuk menghubungi kami dengan segera untuk hubungan perniagaan masa depan dan kejayaan bersama!
Karbon / komposit karbon(selepas ini dirujuk sebagai “C / C atau CFC”) ialah sejenis bahan komposit yang berasaskan karbon dan diperkukuh oleh gentian karbon dan produknya (preform gentian karbon). Ia mempunyai kedua-dua inersia karbon dan kekuatan tinggi gentian karbon. Ia mempunyai sifat mekanikal yang baik, rintangan haba, rintangan kakisan, redaman geseran dan ciri kekonduksian haba dan elektrik
CVD-SiCsalutan mempunyai ciri-ciri struktur seragam, bahan padat, rintangan suhu tinggi, rintangan pengoksidaan, ketulenan tinggi, rintangan asid&alkali dan reagen organik, dengan sifat fizikal dan kimia yang stabil.
Berbanding dengan bahan grafit ketulenan tinggi, grafit mula teroksida pada 400C, yang akan menyebabkan kehilangan serbuk akibat pengoksidaan, mengakibatkan pencemaran alam sekitar kepada peranti persisian dan ruang vakum, dan meningkatkan kekotoran persekitaran ketulenan tinggi.
Walau bagaimanapun, salutan SiC boleh mengekalkan kestabilan fizikal dan kimia pada 1600 darjah, Ia digunakan secara meluas dalam industri moden, terutamanya dalam industri semikonduktor.
Syarikat kami menyediakan perkhidmatan proses salutan SiC melalui kaedah CVD pada permukaan grafit, seramik dan bahan lain, supaya gas khas yang mengandungi karbon dan silikon bertindak balas pada suhu tinggi untuk mendapatkan molekul SiC ketulenan tinggi, molekul yang dimendapkan pada permukaan bahan bersalut, membentuk lapisan pelindung SIC. SIC yang terbentuk diikat dengan kuat pada asas grafit, memberikan sifat istimewa asas grafit, dengan itu menjadikan permukaan grafit padat, Bebas Poros, rintangan suhu tinggi, rintangan kakisan dan rintangan pengoksidaan.
Ciri-ciri utama:
1. Rintangan pengoksidaan suhu tinggi:
rintangan pengoksidaan masih sangat baik apabila suhu setinggi 1600 C.
2. Ketulenan tinggi: dibuat oleh pemendapan wap kimia di bawah keadaan pengklorinan suhu tinggi.
3. Rintangan hakisan: kekerasan tinggi, permukaan padat, zarah halus.
4. Rintangan kakisan: asid, alkali, garam dan reagen organik.
Spesifikasi Utama Salutan CVD-SIC:
| SiC-CVD | ||
| Ketumpatan | (g/cc)
| 3.21 |
| Kekuatan lentur | (Mpa)
| 470 |
| Pengembangan terma | (10-6/K) | 4
|
| Kekonduksian terma | (W/mK) | 300
|
