CVD (Chemical Vapor Deposition) ialah kaedah yang biasa digunakan untuk menyediakan salutan silikon karbida.Salutan silikon karbida CVDmempunyai banyak ciri prestasi yang unik. Artikel ini akan memperkenalkan kaedah penyediaan salutan silikon karbida CVD dan ciri prestasinya.
1. Kaedah penyediaanSalutan silikon karbida CVD
Kaedah CVD menukarkan prekursor gas kepada salutan karbida silikon pepejal di bawah keadaan suhu tinggi. Mengikut prekursor gas yang berbeza, ia boleh dibahagikan kepada CVD fasa gas dan CVD fasa cecair.
1. CVD fasa wap
CVD fasa wap menggunakan prekursor gas, biasanya sebatian organosilikon, untuk mencapai pertumbuhan filem silikon karbida. Sebatian organosilikon yang biasa digunakan termasuk metilsilane, dimetilsilane, monosilane, dsb., yang membentuk filem silikon karbida pada substrat logam dengan mengangkut prekursor gas ke dalam ruang tindak balas suhu tinggi. Kawasan suhu tinggi dalam ruang tindak balas biasanya dihasilkan oleh pemanasan aruhan atau pemanasan rintangan.
2. CVD fasa cecair
CVD fasa cecair menggunakan prekursor cecair, biasanya pelarut organik yang mengandungi silikon dan sebatian silanol, yang dipanaskan dan diwap dalam ruang tindak balas, dan kemudian filem silikon karbida terbentuk pada substrat melalui tindak balas kimia.
2. Ciri-ciri prestasi bagiSalutan silikon karbida CVD
1. Prestasi suhu tinggi yang sangat baik
Salutan silikon karbida CVDmenawarkan kestabilan suhu tinggi yang sangat baik dan rintangan pengoksidaan. Ia mampu berfungsi dalam persekitaran suhu tinggi dan boleh menahan keadaan melampau pada suhu tinggi.
2. Sifat mekanikal yang baik
Salutan silikon karbida CVDmempunyai kekerasan yang tinggi dan rintangan haus yang baik. Ia melindungi substrat logam daripada haus dan kakisan, memanjangkan hayat perkhidmatan bahan.
3. Kestabilan kimia yang sangat baik
Salutan silikon karbida CVDsangat tahan terhadap bahan kimia biasa seperti asid, alkali dan garam. Ia menentang serangan kimia dan kakisan substrat.
4. Pekali geseran rendah
Salutan silikon karbida CVDmempunyai pekali geseran yang rendah dan sifat pelincir diri yang baik. Ia mengurangkan geseran dan haus serta meningkatkan kecekapan penggunaan bahan.
5. kekonduksian haba yang baik
Salutan silikon karbida CVD mempunyai sifat kekonduksian terma yang baik. Ia boleh mengalirkan haba dengan cepat dan meningkatkan kecekapan pelesapan haba asas logam.
6. Ciri-ciri penebat elektrik yang sangat baik
Salutan silikon karbida CVD mempunyai sifat penebat elektrik yang baik dan boleh menghalang kebocoran semasa. Ia digunakan secara meluas dalam perlindungan penebat peranti elektronik.
7. Ketebalan dan komposisi boleh laras
Dengan mengawal keadaan semasa proses CVD dan kepekatan prekursor, ketebalan dan komposisi filem silikon karbida boleh dilaraskan. Ini menyediakan banyak pilihan dan fleksibiliti untuk pelbagai aplikasi.
Ringkasnya, salutan silikon karbida CVD mempunyai prestasi suhu tinggi yang sangat baik, sifat mekanikal yang sangat baik, kestabilan kimia yang baik, pekali geseran yang rendah, kekonduksian haba yang baik dan sifat penebat elektrik. Ciri-ciri ini menjadikan salutan silikon karbida CVD digunakan secara meluas dalam banyak bidang, termasuk elektronik, optik, aeroangkasa, industri kimia, dll.
Masa siaran: Mac-20-2024