Pemanas Substrat MOCVD, Elemen Pemanas Untuk MOCVD

Penerangan ringkas:

Grafit kimia

Kelebihan: Rintangan suhu tinggi

Permohonan:MOCVD/Relau Vakum/Zon Panas

Ketumpatan Pukal:1.68-1.91g/cm3

Kekuatan lentur: 30-46Mpa

Kerintangan: 7-12μΩm


Butiran Produk

Tag Produk

Pemanas Substrat MOCVD, Elemen Pemanas Untuk MOCVD,
pemanas grafit, Semikonduktor Grafit, pemanas, Pemanas Substrat MOCVD,

Pemanas Substrat MOCVD, Elemen Pemanas Untuk MOCVD

grafitpemanas:
Thepemanas grafitkomponen digunakan dalam relau suhu tinggi dengan suhu mencapai 2200 darjah pada persekitaran vakum dan 3000 darjah dalam persekitaran gas ternyahoksida dan dimasukkan.
Ciri utama grafitpemanas:
1. keseragaman struktur pemanasan.
2. kekonduksian elektrik yang baik dan beban elektrik yang tinggi.
3. rintangan kakisan.
4. kebolehoksidaan.
5. ketulenan kimia yang tinggi.
6. kekuatan mekanikal yang tinggi.
Kelebihannya ialah cekap tenaga, nilai tinggi dan penyelenggaraan yang rendah.
Kami boleh menghasilkan bekas grafit anti-pengoksidaan dan jangka hayat yang panjang, acuan grafit dan semua bahagian pemanas grafit.
Parameter utama pemanas grafit:

Spesifikasi Teknikal

VET-M3

Ketumpatan Pukal (g/cm3)

≥1.85

Kandungan Abu (PPM)

≤500

Kekerasan Pantai

≥45

Rintangan Khusus (μ.Ω.m)

≤12

Kekuatan lentur (Mpa)

≥40

Kekuatan Mampatan (Mpa)

≥70

Maks. Saiz Bijirin (μm)

≤43

Pekali Pengembangan Terma Mm/°C

≤4.4*10-6

Pemanas grafit untuk relau elektrik mempunyai sifat rintangan haba, rintangan pengoksidaan, kekonduksian elektrik yang baik dan keamatan mekanikal yang lebih baik. Kami boleh mesin pelbagai jenis pemanas grafit mengikut reka bentuk pelanggan.

Pemanas Substrat MOCVD, Elemen Pemanas Untuk MOCVDPemanas Substrat MOCVD, Elemen Pemanas Untuk MOCVD


  • Sebelumnya:
  • Seterusnya:

  • Sembang Dalam Talian WhatsApp !