Pemanas Substrat MOCVD, Elemen Pemanas Untuk MOCVD,
pemanas grafit, Semikonduktor Grafit, pemanas, Pemanas Substrat MOCVD,
Pemanas Substrat MOCVD, Elemen Pemanas Untuk MOCVD
grafitpemanas:
Thepemanas grafitkomponen digunakan dalam relau suhu tinggi dengan suhu mencapai 2200 darjah pada persekitaran vakum dan 3000 darjah dalam persekitaran gas ternyahoksida dan dimasukkan.
Ciri-ciri utamapemanas grafit:
1. keseragaman struktur pemanasan.
2. kekonduksian elektrik yang baik dan beban elektrik yang tinggi.
3. rintangan kakisan.
4. kebolehoksidaan.
5. ketulenan kimia yang tinggi.
6. kekuatan mekanikal yang tinggi.
Kelebihannya ialah cekap tenaga, nilai tinggi dan penyelenggaraan yang rendah.
Kami boleh menghasilkan bekas grafit anti-pengoksidaan dan jangka hayat yang panjang, acuan grafit dan semua bahagian pemanas grafit.
Parameter utama pemanas grafit:
Spesifikasi Teknikal | VET-M3 |
Ketumpatan Pukal (g/cm3) | ≥1.85 |
Kandungan Abu (PPM) | ≤500 |
Kekerasan Pantai | ≥45 |
Rintangan Khusus (μ.Ω.m) | ≤12 |
Kekuatan lentur (Mpa) | ≥40 |
Kekuatan Mampatan (Mpa) | ≥70 |
Maks. Saiz Bijirin (μm) | ≤43 |
Pekali Pengembangan Terma Mm/°C | ≤4.4*10-6 |
Pemanas grafit untuk relau elektrik mempunyai sifat rintangan haba, rintangan pengoksidaan, kekonduksian elektrik yang baik dan keamatan mekanikal yang lebih baik. Kami boleh mesin pelbagai jenis pemanas grafit mengikut reka bentuk pelanggan.