Carbide Nano Sic Cum Boni Thermal Conductivity Sina Abrasive poliendo et Sandblasting Silicon

Brevis descriptio:


  • Originis loco:China
  • Crystal Structure :FCCβ phase
  • Densitas :3.21 g/cm;
  • Duritia:MMD Vickers;
  • Magnitudo frumenti:2~10μm;
  • Puritas chemica:99.99995%;
  • Calor Capacitas:640J·kg-1·K-1;
  • Sublimatio Temperature:2700℃;
  • Fortitudo Felexuralis:415 Mpa (RT 4-Point);
  • Modulus:430 Gpa (4pt bend, 1300℃);
  • Scelerisque Expansion (CTE)4.5 10-6K-1;
  • Scelerisque Conductivity:300(W/MK);
  • Product Detail

    Product Tags

    Cum magna nostra administratione, facultate technica potenter et tractatu excellenti stricte procedendi, pergimus ut clientes nostros cum honestis qualitatibus, rationabili pretio et magnis provisoribus vendentes. Propositum est fieri inter fidelissimis sociis tuis et satisfactionem promerendo pro Vendontibus Tuum Bonum Sinarum Abrasive poliendo et Sandblasting Pii Carbide NanoSiccum Conductivity Good Thermal, Finis noster ultimus semper est quasi notam supremam praeferre ac etiam quasi auctorem in campo nostro ducere. Certi sumus nos experientiam fructuosam in instrumento creationis fidem emptoris habituram, optamus ut meliorem diu terminus vobiscum cooperari et cooperari!
    Cum magna nostra administratione, facultate technica potenter et tractatu excellenti stricte procedendi, pergimus ut clientes nostros cum honestis qualitatibus, rationabili pretio et magnis provisoribus vendentes. Propositum est fieri inter fidelissimos socios vestros et satisfactionem promerendamSinae Pii Carbide, Sic, Propositum nostrum est "primum gradum products et solutiones praebere et optimum servitium pro nostris clientibus, sic certi sumus vos habere marginem beneficium per cooperationem nobiscum". Si interest in aliquo mercatu nostro vel de consuetudine ordinis disputare vellem, placet liberum contactus nos. Prospicimus ut relationes cum novis clientibus circa mundum in proximo futuro negotiando feliciter instituendo.
    Product Description

    Societas nostra SiC efficiens operas processus per methodum CVD in superficie graphitarum, ceramicorum et aliarum materiarum praebet, ut gasi speciales in caliditate carbonis et siliconis reant, ad altam puritatem SiC molecularum, molecularum in superficie materiarum iactatarum depositarum; formatam SIC tutela iacuit.

    Praecipua lineamenta:

    1. caliditas oxidationis resistentia;

    oxidatio resistentia adhuc optima est, cum siccus tam altus est quam 1600 C.

    2. Puritas alta : factae depositionis vaporis chemicae sub conditione chlorinationis caliditatis.

    3. Exesa resistentia: durities alta, superficies compacta, particulae tenuis.

    4. Corrosio resistentiae: acidum, alcali, salis et reagentia organica.

    Specificationes principales de CVD-SIC Coating

    Sic-CVD Properties

    Crystal Structure FCC β phase
    Density g/cm 3.21
    duritia Vickers duritia 2500
    Frumenti Size μm 2~10
    Puritas chemica % 99.99995
    Calor Capacitas J·kg-1 ·K-1 640
    Sublimatio Temperature 2700
    Fortitudo Felix MPa (RT 4-punctum) 415
    Modulus Gpa (4pt bend, 1300℃) 430
    Scelerisque Expansion (CTE) 10-6K-1 4.5
    Scelerisque conductivity (W/mK) 300

    1 2 3 4 5


  • Priora:
  • Next:

  • Whatsapp Online Chat!