RTP/RTA үчүн SiC каптоо ташыгычы жарым өткөргүчтөрдү өндүрүү процесстеринде колдонулган негизги компонент, тез термикалык иштетүү жана күйдүрүү деп аталат, биз өзүбүздүн патенттелген технологиябызды колдонуп, кремний карбидин ташыгычты өтө жогорку тазалыкка, жакшы каптоо бирдейлигине жана эң сонун кызмат мөөнөтүн колдонобуз. ошондой эле жогорку химиялык туруктуулук жана жылуулук туруктуулук касиеттери.
Биздин продуктылардын өзгөчөлүктөрү:
1. 1700 ℃ чейин жогорку температура кычкылдануу каршылык.
2. Жогорку тазалык жана термикалык бирдейлик
3. Коррозияга мыкты туруктуулук: кислота, щелоч, туз жана органикалык реагенттер.
4. Жогорку катуулугу, компакт бети, майда бөлүкчөлөр.
5. Узак кызмат мөөнөтү жана бышык
| CVD SiC薄膜基本物理性能 CVD SiC негизги физикалык касиеттерикаптоо | |
| 性质 / Мүлк | 典型数值 / Типтүү маани |
| 晶体结构 / Кристалл структурасы | FCC β фазасы多晶，主要为（111）取向 |
| 密度 / Жыштыгы | 3,21 г/см³ |
| 硬度 / Катуулугу | 2500 维氏硬度（500г жүк） |
| 晶粒大小 / Grain Size | 2~10μm |
| 纯度 / Химиялык тазалык | 99.99995% |
| 热容 / Жылуулук сыйымдуулугу | 640 Дж·кг-1· К-1 |
| 升华温度 / Сублимация температурасы | 2700℃ |
| 抗弯强度 / Ийилүү күчү | 415 МПа РТ 4-пункту |
| 杨氏模量 / Young's Modulus | 430 Gpa 4pt ийилип, 1300 ℃ |
| 导热系数 / ТермалӨткөргүчтүк | 300W·m-1· К-1 |
| 热膨胀系数 / Термикалык кеңейүү (CTE) | 4,5×10-6K-1 |
VET Energy - бул SiC каптоо, TaC каптоо, айнектүү көмүртек каптоо, пиролиттик көмүртек каптоо ж.б. сыяктуу ар кандай жабдыктары бар жекелештирилген графит жана кремний карбид буюмдарынын чыныгы өндүрүүчүсү, жарым өткөргүч жана фотоэлектрдик өнөр жайы үчүн ар кандай ылайыкташтырылган тетиктерди бере алат.
Биздин техникалык команда жогорку ата мекендик изилдөө институттарынан келет, силер үчүн көбүрөөк кесиптик материалдык чечимдерди камсыз кыла алат.
Биз өнүккөн материалдар менен камсыз кылуу үчүн өнүккөн процесстерди тынымсыз өнүктүрөбүз жана жабын менен субстраттын ортосундагы байланышты катуураак жана ажыратууга азыраак жакын кыла турган эксклюзивдүү патенттелген технологияны иштеп чыктык.
Сизди биздин фабрикага барыңыз, келиңиз, андан ары талкуулайлы!
