ព័ត៌មាន

តើអ្វីទៅជាពិការភាពនៃស្រទាប់ epitaxial ស៊ីលីកុន
ដោយ admin នៅថ្ងៃទី 24-06-05
បច្ចេកវិទ្យាស្នូលសម្រាប់ការលូតលាស់នៃសមា្ភារៈ SiC epitaxial គឺជាបច្ចេកវិទ្យាត្រួតពិនិត្យពិការភាពដំបូងបង្អស់ ជាពិសេសសម្រាប់បច្ចេកវិជ្ជាត្រួតពិនិត្យពិការភាព ដែលងាយនឹងខូចឧបករណ៍ ឬការថយចុះភាពជឿជាក់។ ការសិក្សាអំពីយន្តការនៃពិការភាពស្រទាប់ខាងក្រោមដែលលាតសន្ធឹងទៅក្នុងអេ...
អានបន្ថែម
គ្រាប់ធញ្ញជាតិដែលមានអុកស៊ីតកម្ម និងបច្ចេកវិទ្យាការលូតលាស់ epitaxial-Ⅱ
ដោយ admin នៅថ្ងៃទី 24-05-30
2. ការលូតលាស់ខ្សែភាពយន្តស្តើង Epitaxial ស្រទាប់ខាងក្រោមផ្តល់នូវស្រទាប់ទ្រទ្រង់រាងកាយ ឬស្រទាប់ conductive សម្រាប់ឧបករណ៍ថាមពល Ga2O3 ។ ស្រទាប់សំខាន់បន្ទាប់គឺស្រទាប់ឆានែលឬស្រទាប់ epitaxial ដែលប្រើសម្រាប់ធន់ទ្រាំនឹងវ៉ុលនិងការដឹកជញ្ជូនតាមក្រុមហ៊ុនដឹកជញ្ជូន។ ដើម្បីបង្កើនវ៉ុលបំបែក និងកាត់បន្ថយកុង...
អានបន្ថែម
Gallium oxide គ្រីស្តាល់តែមួយ និងបច្ចេកវិទ្យាការលូតលាស់ epitaxial
ដោយ admin នៅថ្ងៃទី 24-05-30
ឧបករណ៍ semiconductors ធំទូលាយ (WBG) តំណាងដោយ silicon carbide (SiC) និង gallium nitride (GaN) បានទទួលការចាប់អារម្មណ៍យ៉ាងទូលំទូលាយ។ ប្រជាជនមានការរំពឹងទុកខ្ពស់ចំពោះការរំពឹងទុកនៃការប្រើប្រាស់ស៊ីលីកុនកាបូននៅក្នុងរថយន្តអគ្គិសនី និងបណ្តាញអគ្គិសនី ក៏ដូចជាការរំពឹងទុកនៃការប្រើប្រាស់ហ្គាល...
អានបន្ថែម
តើអ្វីជាឧបសគ្គបច្ចេកទេសចំពោះស៊ីលីកុនកាបូន?Ⅱ
ដោយ admin នៅថ្ងៃទី 24-05-22
ការលំបាកផ្នែកបច្ចេកទេសក្នុងការផលិតម៉ាសស៊ីលីកុនកាបែតដែលមានគុណភាពខ្ពស់ជាមួយនឹងដំណើរការមានស្ថេរភាពរួមមាន: 1) ដោយសារគ្រីស្តាល់ត្រូវលូតលាស់នៅក្នុងបរិយាកាសបិទជិតដែលមានសីតុណ្ហភាពខ្ពស់លើសពី 2000 អង្សាសេ តម្រូវការត្រួតពិនិត្យសីតុណ្ហភាពគឺខ្ពស់ខ្លាំងណាស់។ 2) ចាប់តាំងពីស៊ីលីកុន carbide មាន ...
អានបន្ថែម
តើអ្វីទៅជាឧបសគ្គបច្ចេកទេសចំពោះស៊ីលីកុនកាបូន?
ដោយ admin នៅថ្ងៃទី 24-05-22
ជំនាន់ទីមួយនៃសមា្ភារៈ semiconductor ត្រូវបានតំណាងដោយស៊ីលីកុនប្រពៃណី (Si) និង germanium (Ge) ដែលជាមូលដ្ឋានសម្រាប់ការផលិតសៀគ្វីរួមបញ្ចូលគ្នា។ ពួកវាត្រូវបានគេប្រើយ៉ាងទូលំទូលាយនៅក្នុងតង់ស្យុងទាប ប្រេកង់ទាប និងឧបករណ៍ចាប់សញ្ញា និងឧបករណ៍ចាប់ថាមពលទាប។ ជាង 90% នៃផលិតផល semiconductor...
អានបន្ថែម
តើម្សៅមីក្រូ SiC ផលិតដោយរបៀបណា?
ដោយ admin នៅថ្ងៃទី 24-05-13
SiC គ្រីស្តាល់តែមួយគឺជាសម្ភារៈ semiconductor សមាសធាតុក្រុម IV-IV ដែលមានធាតុផ្សំពីរគឺ Si និង C ក្នុងសមាមាត្រ stoichiometric នៃ 1: 1 ។ ភាពរឹងរបស់វាស្ថិតនៅលំដាប់ទីពីរបន្ទាប់ពីពេជ្រ។ វិធីសាស្រ្តកាត់បន្ថយកាបូននៃស៊ីលីកុនអុកស៊ីដដើម្បីរៀបចំ SiC គឺផ្អែកលើរូបមន្តប្រតិកម្មគីមីខាងក្រោម...
អានបន្ថែម
តើស្រទាប់ epitaxial ជួយឧបករណ៍ semiconductor យ៉ាងដូចម្តេច?
ដោយ admin នៅថ្ងៃទី 24-05-13
ប្រភពដើមនៃឈ្មោះ wafer epitaxial ជាដំបូងសូមឱ្យយើងពេញនិយមគំនិតតូចមួយ: ការរៀបចំ wafer រួមបញ្ចូលតំណភ្ជាប់សំខាន់ពីរ: ការរៀបចំស្រទាប់ខាងក្រោមនិងដំណើរការ epitaxial ។ ស្រទាប់ខាងក្រោមគឺជា wafer ធ្វើពីវត្ថុធាតុគ្រីស្តាល់តែមួយ semiconductor ។ ស្រទាប់ខាងក្រោមអាចចូលទៅក្នុង wafer manufacturi ដោយផ្ទាល់ ...
អានបន្ថែម
សេចក្តីណែនាំអំពីបច្ចេកវិជ្ជាដាក់ស្រទាប់ចំហាយគីមី (CVD) ស្តើង
ដោយ admin នៅថ្ងៃទី 24-05-06
កំណកចំហាយគីមី (CVD) គឺជាបច្ចេកវិជ្ជាដាក់ស្រទាប់ហ្វីលស្តើងដ៏សំខាន់ ដែលជារឿយៗត្រូវបានប្រើដើម្បីរៀបចំខ្សែភាពយន្តមុខងារផ្សេងៗ និងសម្ភារៈស្រទាប់ស្តើង ហើយត្រូវបានគេប្រើយ៉ាងទូលំទូលាយនៅក្នុងការផលិតសារធាតុ semiconductor និងវិស័យផ្សេងៗទៀត។ 1. គោលការណ៍នៃការងាររបស់ CVD នៅក្នុងដំណើរការ CVD ឧស្ម័នមុនគេ (មួយ ឬ...
អានបន្ថែម
អាថ៌កំបាំងនៃ "មាសខ្មៅ" នៅពីក្រោយឧស្សាហកម្មអេឡិចត្រូនិក photovoltaic: បំណងប្រាថ្នានិងការពឹងផ្អែកលើក្រាហ្វិច isostatic
ដោយ admin នៅថ្ងៃទី 24-05-06
Isostatic graphite គឺជាសម្ភារៈដ៏សំខាន់បំផុតនៅក្នុង photovoltaics និង semiconductors ។ ជាមួយនឹងការកើនឡើងយ៉ាងឆាប់រហ័សនៃក្រុមហ៊ុនក្រាហ្វិចអ៊ីសូទិកក្នុងស្រុក ភាពផ្តាច់មុខរបស់ក្រុមហ៊ុនបរទេសនៅក្នុងប្រទេសចិនត្រូវបានបំបែក។ ជាមួយនឹងការស្រាវជ្រាវ និងការអភិវឌ្ឍន៍ឯករាជ្យជាបន្តបន្ទាប់ និងរបកគំហើញបច្ចេកវិជ្ជា...
អានបន្ថែម