Susceptor Barel Grafit Epitaksial

Susceptor Barel Grafit Epitaksial

Susceptor Barel Grafit Epitaksialadalah perangkat pendukung dan pemanas yang dirancang khusus yang digunakan untuk menahan dan memanaskan substrat semikonduktor selama proses manufaktur seperti proses Deposisi atau Epitaksi.

Strukturnya biasanya berbentuk silinder atau agak berbentuk tong, permukaannya memiliki banyak kantong atau platform untuk menempatkan wafer, dapat berbentuk padat atau berongga, tergantung pada metode pemanasan.

Fungsi utama susceptor barel epitaksi:

-Dukungan substrat: menampung beberapa wafer semikonduktor dengan aman;
-Sumber panas: menyediakan suhu tinggi yang dibutuhkan untuk pertumbuhan melalui pemanasan;
-Keseragaman suhu: memastikan pemanasan media yang seragam;
-Rotasi: biasanya berputar selama pertumbuhan untuk meningkatkan suhu dan keseragaman distribusi gas.

Prinsip kerja susceptor barel grafit Epi:
- Dalam reaktor epitaksi, suseptor barel dipanaskan hingga suhu yang diperlukan (biasanya 1000℃-1200℃ untuk epitaksi silikon);
-Susceptor barel berputar untuk memastikan distribusi suhu dan aliran gas yang seragam;
-Gas reaksi terurai pada suhu tinggi, membentuk lapisan epitaksial pada permukaan substrat.

Aplikasi:
-Terutama digunakan untuk pertumbuhan epitaksi silikon
-Juga berlaku untuk epitaksi bahan semikonduktor lain seperti GaAs, InP, dll.

VET Energy menggunakan grafit dengan kemurnian tinggi dengan lapisan CVD-SiC untuk meningkatkan stabilitas kimia:

Keunggulan VET Energy Epitaxial Epi Graphite Barrel Susceptor:

-Stabilitas suhu tinggi;
-Keseragaman termal yang baik;
-Dapat memproses beberapa substrat secara bersamaan, meningkatkan efisiensi produksi;
-Secara kimia lembam, menjaga lingkungan pertumbuhan dengan kemurnian tinggi.