Բարձր մաքրության պինդ CVD SiC զանգված՝ գրաֆիտային հիմքով

ԱյնԲարձր մաքրության պինդ CVD SiC զանգված՝ գրաֆիտային հիմքովfrom vet-china-ն առաջադեմ նյութ է, որը նախատեսված է բարձր արդյունավետությամբ արդյունաբերության պահանջները բավարարելու համար: Այս ապրանքը համատեղում է բարձր մաքրությունը և բացառիկ ջերմային կայունությունըCVD SiC (Քիմիական գոլորշու նստեցման սիլիցիումի կարբիդ)մի ամուրգրաֆիտի հիմք, ապահովելով դիմացկուն, բարձր ամրության բաղադրիչ տարբեր կիրառությունների համար: Այնպինդ SiCկառուցվածքը ապահովում է գերազանց մեխանիկական հատկություններ, մինչդեռ գրաֆիտի հիմքն առաջարկում է գերազանց ջերմային հաղորդունակություն՝ այս նյութը դարձնելով իդեալական բարձր ջերմաստիճանի միջավայրերի համար:

Պինդ զանգվածի վրա բարձր մաքրության SiC ծածկույթը բարելավում է մաշվածության, օքսիդացման և քիմիական կոռոզիայի դիմադրությունը, ինչը կարևոր է կիսահաղորդիչների մշակման, օդատիեզերական և այլ պահանջկոտ արդյունաբերական ոլորտներում օգտագործելու համար: vet-china-ն ապահովում է, որCVD SiC ծածկույթգործընթացի արդյունքում ստացվում է սիլիցիումի կարբիդի միատեսակ և խիտ շերտ, ինչը մեծացնում է արտադրանքի և՛ ամրությունը, և՛ երկարակեցությունը:

Գրաֆիտային հիմքով այս պինդ SiC զանգվածային նյութն առաջարկում է գերազանց ջերմային ցնցումների դիմադրություն, ինչը թույլ է տալիս պահպանել կայունությունը ջերմաստիճանի արագ փոփոխությունների դեպքում: CVD SiC-ի և գրաֆիտի միջուկի համադրությունը այն հարմար է դարձնում ծայրահեղ պայմաններում օգտագործելու համար, ինչպիսիք են քիմիական ռեակտորներում, կիսահաղորդչային վառարաններում և բարձր ջերմաստիճանի սարքավորումներում:

Բացի այդ,CVD SiC ծածկույթապահովում է մակերևույթի բարձր կարծրություն՝ դարձնելով նյութը դիմացկուն մաշվածության և քայքայման նկատմամբ բարձր շփման միջավայրում: CVD SiC-ի բարձր մաքրությունը ապահովում է նվազագույն աղտոտվածություն, ինչը հատկապես կարևոր է կիսահաղորդիչների և ճշգրիտ արտադրական գործընթացներում:

vet-china-ն առաջարկում է High Purity Solid CVD SiC Bulk With Graphite Base-ը՝ որպես բազմակողմանի, բարձր արդյունավետության լուծում այն ​​ոլորտների համար, որոնք պահանջում են նյութեր, որոնք կարող են դիմանալ ծայրահեղ պայմաններին՝ պահպանելով կառուցվածքային ամբողջականությունն ու մաքրությունը: