સિલિકોન આધારિત GaN Epitaxy

ઉત્પાદન વર્ણન

અમારી કંપની ગ્રેફાઇટ, સિરામિક્સ અને અન્ય સામગ્રીની સપાટી પર CVD પદ્ધતિ દ્વારા SiC કોટિંગ પ્રક્રિયા સેવાઓ પૂરી પાડે છે, જેથી કાર્બન અને સિલિકોન ધરાવતા વિશિષ્ટ વાયુઓ ઉચ્ચ તાપમાને પ્રતિક્રિયા આપે જેથી ઉચ્ચ શુદ્ધતા SiC પરમાણુઓ, કોટેડ સામગ્રીની સપાટી પર જમા થયેલ અણુઓ, SIC રક્ષણાત્મક સ્તરની રચના.

મુખ્ય લક્ષણો:

1. ઉચ્ચ તાપમાન ઓક્સિડેશન પ્રતિકાર:

જ્યારે તાપમાન 1600 સે જેટલું ઊંચું હોય ત્યારે ઓક્સિડેશન પ્રતિકાર હજુ પણ ખૂબ જ સારો હોય છે.

2. ઉચ્ચ શુદ્ધતા : ઉચ્ચ તાપમાન ક્લોરીનેશનની સ્થિતિ હેઠળ રાસાયણિક વરાળના જથ્થા દ્વારા બનાવવામાં આવે છે.

3. ધોવાણ પ્રતિકાર: ઉચ્ચ કઠિનતા, કોમ્પેક્ટ સપાટી, દંડ કણો.

4. કાટ પ્રતિકાર: એસિડ, આલ્કલી, મીઠું અને કાર્બનિક રીએજન્ટ્સ.

CVD-SIC કોટિંગની મુખ્ય વિશિષ્ટતાઓ