સમાચાર

સેમિકન્ડક્ટર મેન્યુફેક્ચરિંગ ઉદ્યોગમાં પ્રદૂષણના સ્ત્રોત અને નિવારણ
24-08-13 ના રોજ એડમિન દ્વારા
સેમિકન્ડક્ટર ઉપકરણ ઉત્પાદનમાં મુખ્યત્વે અલગ ઉપકરણો, સંકલિત સર્કિટ અને તેમની પેકેજિંગ પ્રક્રિયાઓનો સમાવેશ થાય છે. સેમિકન્ડક્ટર ઉત્પાદનને ત્રણ તબક્કામાં વિભાજિત કરી શકાય છે: ઉત્પાદન શરીર સામગ્રી ઉત્પાદન, ઉત્પાદન વેફર ઉત્પાદન અને ઉપકરણ એસેમ્બલી. તેમાંથી,...
વધુ વાંચો
શા માટે પાતળા કરવાની જરૂર છે?
24-08-08 ના રોજ એડમિન દ્વારા
બેક-એન્ડ પ્રક્રિયાના તબક્કામાં, વેફર (આગળની બાજુએ સર્કિટ સાથે સિલિકોન વેફર) ને પછીના ડાઇસિંગ, વેલ્ડીંગ અને પેકેજિંગ પહેલાં પીઠ પર પાતળું કરવાની જરૂર છે જેથી પેકેજ માઉન્ટિંગ ઊંચાઈ ઘટાડવા, ચિપ પેકેજ વોલ્યુમ ઘટાડવા, ચિપના થર્મલને સુધારવા. પ્રસરણ...
વધુ વાંચો
ઉચ્ચ શુદ્ધતા SiC સિંગલ ક્રિસ્ટલ પાવડર સંશ્લેષણ પ્રક્રિયા
24-08-08 ના રોજ એડમિન દ્વારા
સિલિકોન કાર્બાઇડ સિંગલ ક્રિસ્ટલ વૃદ્ધિ પ્રક્રિયામાં, ભૌતિક બાષ્પ પરિવહન એ વર્તમાન મુખ્ય પ્રવાહની ઔદ્યોગિકીકરણ પદ્ધતિ છે. PVT વૃદ્ધિ પદ્ધતિ માટે, સિલિકોન કાર્બાઇડ પાવડર વૃદ્ધિ પ્રક્રિયા પર ખૂબ પ્રભાવ ધરાવે છે. સિલિકોન કાર્બાઇડ પાવડરના તમામ પરિમાણો ગંભીર...
વધુ વાંચો
વેફર બોક્સમાં 25 વેફર શા માટે હોય છે?
24-07-30 ના રોજ એડમિન દ્વારા
આધુનિક ટેકનોલોજીની અત્યાધુનિક દુનિયામાં, વેફર્સ, જેને સિલિકોન વેફર્સ તરીકે પણ ઓળખવામાં આવે છે, તે સેમિકન્ડક્ટર ઉદ્યોગના મુખ્ય ઘટકો છે. તેઓ માઇક્રોપ્રોસેસર્સ, મેમરી, સેન્સર વગેરે જેવા વિવિધ ઇલેક્ટ્રોનિક ઘટકોના ઉત્પાદન માટેનો આધાર છે અને દરેક વેફર...
વધુ વાંચો
વરાળ તબક્કાના એપિટાક્સી માટે સામાન્ય રીતે ઉપયોગમાં લેવાતા પેડેસ્ટલ્સ
24-07-30 ના રોજ એડમિન દ્વારા
વેપર ફેઝ એપિટેક્સી (VPE) પ્રક્રિયા દરમિયાન, પેડેસ્ટલની ભૂમિકા સબસ્ટ્રેટને ટેકો આપવા અને વૃદ્ધિ પ્રક્રિયા દરમિયાન સમાન ગરમીની ખાતરી કરવાની છે. વિવિધ પ્રકારનાં પેડેસ્ટલ્સ વિવિધ વૃદ્ધિની પરિસ્થિતિઓ અને સામગ્રી સિસ્ટમો માટે યોગ્ય છે. નીચે આપેલા કેટલાક...
વધુ વાંચો
ટેન્ટેલમ કાર્બાઇડ કોટેડ ઉત્પાદનોની સર્વિસ લાઇફ કેવી રીતે વધારવી?
24-07-26 ના રોજ એડમિન દ્વારા
ટેન્ટેલમ કાર્બાઇડ કોટેડ ઉત્પાદનો સામાન્ય રીતે ઉપયોગમાં લેવાતી ઉચ્ચ-તાપમાન સામગ્રી છે, જે ઉચ્ચ તાપમાન પ્રતિકાર, કાટ પ્રતિકાર, વસ્ત્રો પ્રતિકાર વગેરે દ્વારા વર્ગીકૃત થયેલ છે. તેથી, તેઓ એરોસ્પેસ, રાસાયણિક અને ઊર્જા જેવા ઉદ્યોગોમાં વ્યાપકપણે ઉપયોગમાં લેવાય છે. ભૂતપૂર્વ કરવા માટે...
વધુ વાંચો
સેમિકન્ડક્ટર સીવીડી સાધનોમાં PECVD અને LPCVD વચ્ચે શું તફાવત છે?
24-07-24 ના રોજ એડમિન દ્વારા
રાસાયણિક વરાળ ડિપોઝિશન (CVD) એ ગેસ મિશ્રણની રાસાયણિક પ્રતિક્રિયા દ્વારા સિલિકોન વેફરની સપાટી પર નક્કર ફિલ્મ જમા કરવાની પ્રક્રિયાનો ઉલ્લેખ કરે છે. વિવિધ પ્રતિક્રિયા પરિસ્થિતિઓ (દબાણ, પૂર્વવર્તી) અનુસાર, તેને વિવિધ સાધનોમાં વિભાજિત કરી શકાય છે...
વધુ વાંચો
સિલિકોન કાર્બાઇડ ગ્રેફાઇટ મોલ્ડની લાક્ષણિકતાઓ
24-07-18 ના રોજ એડમિન દ્વારા
સિલિકોન કાર્બાઇડ ગ્રેફાઇટ મોલ્ડ સિલિકોન કાર્બાઇડ ગ્રેફાઇટ મોલ્ડ એ આધાર તરીકે સિલિકોન કાર્બાઇડ (SiC) અને મજબૂતીકરણ સામગ્રી તરીકે ગ્રેફાઇટ સાથેનો સંયુક્ત ઘાટ છે. આ મોલ્ડમાં ઉત્તમ થર્મલ વાહકતા, ઉચ્ચ તાપમાન પ્રતિકાર, કાટ પ્રતિકાર અને...
વધુ વાંચો
ફોટોલિથોગ્રાફીની સંપૂર્ણ પ્રક્રિયા સેમિકન્ડક્ટર પ્રક્રિયા કરે છે
24-07-16 ના રોજ એડમિન દ્વારા
દરેક સેમિકન્ડક્ટર પ્રોડક્ટના ઉત્પાદન માટે સેંકડો પ્રક્રિયાઓની જરૂર પડે છે. અમે સમગ્ર ઉત્પાદન પ્રક્રિયાને આઠ પગલાંઓમાં વિભાજીત કરીએ છીએ: વેફર પ્રોસેસિંગ-ઓક્સિડેશન-ફોટોલિથોગ્રાફી-એચિંગ-પાતળી ફિલ્મ ડિપોઝિશન-એપિટેક્સિયલ ગ્રોથ-ડિફ્યુઝન-આયન ઇમ્પ્લાન્ટેશન. તમને મદદ કરવા માટે...
વધુ વાંચો